新北塑料納米鍍膜設備服務放心可靠

薄膜(比如銥和鉑薄膜)之所以引起人們的興趣是因為它們具有良好的性能 、高的電導率 、很強的催化活性以及很好的穩定性等 。這些性能使得薄膜在電極材料 、微電子 、固態燃料電池和氣敏元件等許多領域存在廣泛的應用。

在CVD處理過程中，尺寸變形小的材料是硬質合金及含Cr高的不銹鋼系合金；沖壓加工領域使用的模具材料主要限于合金工具鋼、冷作模具鋼（Cr12MoV）、硬質合金等，其中快冷淬透鋼，由于快冷時容易產生翹曲、扭曲等變形，所以不宜進行CVD處理；而高速鋼是熱處理膨脹較大的鋼種，使用時必須充分估計其膨脹變形量。

物理氣相沉積涂層設備，該設備包括耐高壓真空爐腔、轉爐架、真空系統、陰極電弧系統、控制系統、高溫軸承等，同時采用開發的先進的真空磁控陰極電弧技術，將具有超高硬度、更強結合力、均勻一致的納微米超硬薄膜運用于刀具、各類模具以及機械零部件表面，壽命提高達到3-10倍以上。

研究制備的各類PVD涂層包括高硅涂層、高鋁涂層（氮鋁化鈦）、Cr-Al涂層（AlCrN）、TiCN（氮碳化鈦）涂層、TiN（氮化鈦）涂層、類金剛石（DLC）涂層等。涂層具有光滑、致密、硬度高、耐高溫、抗磨損、防氧化等特點，能夠進行批量和工業化生產應用。

等離子體化學氣相沉積技術原理是利用低溫等離子體（非平衡等離子體）作能量源，工件置于低氣壓下輝光放電的陰極上，利用輝光放電（或另加發熱體）使工件升溫到預定的溫度，然后通進適量的反應氣體，氣體經一系列化學反應和等離子體反應，在工件表面形成固態薄膜。它包括了化學氣相沉積的一般技術，又有輝光放電的強化作用。