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磁     控    靶

 磁控濺射靶是真空磁控濺射鍍膜的核心部件，它的重要作用主要表現在以下兩個方面

(1)對于大面積表面的鍍膜，磁控濺射靶影響著膜層的均勻性與重復性；

(2)當膜層材料為貴重金屬時，靶的結構決定著靶材(形成薄膜的材料)，即該貴重金屬的利用率.從靶結構上分為:圓形平面靶/柱狀靶/矩形靶/

常規圓形平面靶規格:

1.靶材尺寸：Ф50mm；Ф60mm；Ф75mm；Ф100mm；Ф150mm；可定制各類磁控靶

2.永磁靶（可濺射磁性材料)，射頻濺射與直流濺射兼容，靶內水冷；

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高溫束源爐技術特征

以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，希望對同行業的朋友有所幫助。

高溫束源爐，包括機架，其特征在于，包括底座和垂直設置在所述底座上的立桿，本體包括坩堝、加熱絲、冷卻波紋管和電極組件，底座的上方設置有保護罩，保護罩內設置有所述坩堝和所述加熱絲，坩堝上設置有所述加熱絲，坩堝的外側設置有屏蔽層，底座上設置有所述冷卻波紋管和所述電極組件，冷卻波紋管通過連接管路與所述束源爐本體連通，電極組件通過連接引線與所述束源爐本體連接。電極下部分包括與冷卻水管下端配合的緊固螺母端蓋，該緊固螺母端蓋上固定有進水管和排水管，進水管上端口伸向冷卻水管上部的電極上部分受熱區，排水管上端口位于冷卻水管底部。

靶材鍍膜前的清潔

在進行鍍膜前都必須將基片進行清潔,對于在線鍍膜來說,這是很小的事情,但對離線鍍膜來說卻相當重要,而且操作起來也比較困難，對于大面積的鍍膜來說,將玻璃基片完全清潔干凈是不可能的,因此,如何達到鍍膜所必須要求的潔凈程度就變得非常重要。要保持清潔程度足夠高,如果清潔程度不夠,膜層容易老化,甚至脫膜等現象。不同用途,不同加工工藝的膜層對清潔程度要求是不一樣的,對于目前我司生產的玻璃來說, Low-E玻璃要求的玻璃潔凈度不如熱反射玻璃高。溫度控制和均勻的基于SCR功率輸出電源實現準確的沉積速率控制，并確保高質量的，均勻的膜。目前要為鍍膜準備大面積的鍍膜玻璃基片，主要采用的是一 種濕式清潔技術,這種技術包括三部分:

1.松動玻璃表面的雜質

2.去除已經松動的、分離的雜質

3.干燥已經清潔的玻璃表面

沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年真空配件與零件行業經驗，專注真空配件與零件研發定制與生產，先進的真空配件與零件生產設備和技術，建立了嚴格的產品生產體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話！！！

什么是靶材？

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業電阻熱蒸發鍍膜產品供應商，我們為您帶來以下信息。

靶材就是目標材料。用于高能激光器械中,不同功率密度、不同輸出波形、 不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產生不同的殺傷破壞效應。用于物理鍍膜中的濺鍍，主要有金屬靶材和陶瓷靶材。

磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,較之較早點的蒸發鍍膜方式,其很多方面的優勢相當明顯。作為- -項已經發展的較為成熟的技術,磁控濺射已經被應用于許多領域。