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發(fā)布時間:2021-07-03 09:12  





真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支,在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應用。在涂層前一定要清洗產(chǎn)品,避免污染產(chǎn)品,確保表面的清潔度。
真空電鍍的簡單作用過程:真空電鍍接通蒸發(fā)源交流電源,真空電鍍蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā),真空電鍍進入輝光放電區(qū)并被電離。真空電鍍帶正電荷的蒸發(fā)料離子,陰極吸引下,隨同離子一同沖向工件,真空電鍍當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子逾越濺失離子的數(shù)量時,真空電鍍則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。
真空鍍膜設備在塑料制品應用極其廣泛,通過真空鍍膜技術(shù)的應用,使塑料表面金屬化,將有機材料和無機材料結(jié)合起來,大大提高了它的物理、化學性能。使塑料制品更美觀、不易老化,且讓其機械性良好。
塑料制品通過真空鍍膜設備的應用,大大提高了它的性能,改善表面硬度,原塑膠表面比金屬軟而易受損害,通過真空鍍膜,硬度及耐磨性大大增加。這也是為什么如今真空鍍膜設備現(xiàn)在很多的廠商都不可缺少的。
真空鍍膜應用,簡單地理解就是在真空環(huán)境下,利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統(tǒng)鍍膜方式,真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜。真空條件下制備薄膜,環(huán)境清潔,膜不易受到污染,因此,可獲得致密性好、純度高、膜層均勻的膜。
物理氣相沉積:在真空狀態(tài)下,鍍膜材料經(jīng)蒸發(fā)或濺射等物理方法氣化,沉積到基片上的一種制取膜層的方法。
真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,即物理氣相沉積技術(shù)和化學氣相沉積技術(shù)。
物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,直接沉積到基體表面上的方法。化學氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體,借助氣相作用或基體表面上的化學反應,在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法,主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積的等離子化學氣相沉積等。