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鍍膜加工廠告訴你真空鍍膜的特點是什么？

真空鍍膜和其他鍍膜方式相比較具有哪些特點呢？現在由電鍍加工廠的小編和大家說說具體有哪些特點：

1.真空鍍膜可以在固態基體上鍍制金屬，合金，半導體薄膜及各種化合物薄膜拜，薄膜的成分可以在大范圍內調控。

2.真空鍍膜可以鍍制高純度，高致密度，與基體結合力強的各種功能薄膜拜。特別是各種金屬五金產品，大規模集成電路，小分子有機顯示器件等很多器件所需的主體薄膜只能在真空條件下制備，其他制模技術無法滿足要求。

3.真空鍍膜對環境無污染，特別是PVD方法。

4.真空鍍膜是需要有真空設備來完成的鍍膜，所以成本比較高，但真空鍍膜產品耐磨性好，耐腐蝕，環保，產品可過ROHS測試。

濺射鍍膜：用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。濺射現象于1870年開始用于鍍膜技術，1930年以后由于提高了沉積速率而逐漸用于工業生產。常用的二極濺射設備如圖3[ 二極濺射示意圖]。通常將欲沉積的材料制成板材——靶,固定在陰極上。基片置于正對靶面的陽極上,距靶幾厘米。為了滿足輔助槽的負荷要求，生產線占用面積比同樣產量的環形電鍍自動生產線要大，清洗槽消耗的水量與加熱時的能耗也較大。系統抽至高真空后充入10-1帕的氣體，在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產生輝光放電。

本實用新型在使用的時候，通過底蓋15或底盤2把指環扣固定安裝在手機殼上，把指環6連同裝飾件7和上蓋11相對旋轉蓋5且在旋轉蓋5的邊緣上掀起，由于指環6與旋轉蓋5鉸接，旋轉蓋5與旋轉件4花鍵連接，旋轉件4可相對固定在手機殼上的底盤2轉動，故當使用者推動指環6轉動時，指環6依次帶動旋轉蓋5和旋轉件4轉動，實現指環6沿著底盤2的邊緣，相對底盤2轉動。同時，當指環6轉動的時候，在指環6內的裝飾件7會隨著指環6的轉動而在指環6內轉動，為指環6的使用增加了美感及趣味性。真空鍍膜是需要有真空設備來完成的鍍膜，所以成本比較高，但真空鍍膜產品耐磨性好，耐腐蝕，環保，產品可過ROHS測試。

本實用新型涉及數碼產品指環支架技術領域，特指一種磁能指環支架，包括磁鐵底座與鐵制指環，磁鐵底座與鐵制指環均采用圓形結構設置，磁鐵底座與鐵制指環之間通過磁能吸附方式對應設置。本實用新型采用這樣的結構設置，磁鐵底座與鐵制指環之間通過磁能吸附方式可實現數碼產品360度無死角使用，同時采用吸附原理，便于磁鐵底座與鐵制指環的分離和隱藏，不使用的情況下也不影響美觀。而能滿足大型、環形工件或中、小型工件的批量生產的還是直線式電鍍自動生產線，所以大部分電鍍加工廠運用比較普遍的還是這類生產線。