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真空離子鍍膜機的自動化發展

真空離子鍍膜機是太陽能真空管生產的關鍵設備，隨著自動化技術的發展，其工藝要求及自動化程度也越來越高。

開始的真空離子鍍膜機控制系統采用繼電器控制，由模擬線路板及單片機等電路組成實現控制功能，因線路繁雜以及電子元器件的不穩定造成設備性能的不穩定，并且給維修工作帶來很大困難，另外操作界面不直觀，誤操作現象時有發生。

目前，真空離子鍍膜機已廣泛采用PLC可編程器設計控制系統，該技術已相當成熟，基本取代了單片機，并采用先進的人機界面觸摸屏進行更加直觀的人機對話，可方便地設定參數，由控制系統按工藝流程分步或自動運行，具有各種系統保護以及故障提示、報警信息等功能，并且通過利用PLC通訊功能，與上位機通訊，實現對真空離子鍍膜機工藝流程的全程監控，以便工程師及時發現并處理故障信息以及遠程修改工藝參數等，較大地方便了生產過程質量控制和管理。

磁控濺射鍍膜設備濺射方式

鍍層質量好

離子鍍的鍍層組織致密、無、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復，不致形成金屬瘤。像螺紋一類的零件也能鍍復，由于這種工藝方法還能修補工件表面的微小裂紋和麻點等缺陷，故可有效地改善被鍍零件的表面質量和物理機械性能。疲勞試驗表明，如果處理得當，工件疲勞壽命可比鍍前高百分之二、三十。

主要的鍍膜濺射方式有哪些？

磁控濺射鍍膜設備在目前鍍膜行業中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業都會有使用到。我們平日生產的時候都是由機器生產，那么大家知道目前的磁控鍍膜設備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積.

現在的直流濺射（也叫二級濺射）較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩定等缺點.

直流濺射發展后期,人們在其表面加上一定磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法.

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備

而后又有中頻濺射,提高了陰極發電速率,不易造成放電、靶材等現象.

而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

如果尋找本質區別是：直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機.濺射過程所用設備的區別就是電源的區別.

以上就是主要的磁控濺射鍍膜設備的濺射方式，希望本文能夠讓用戶對設備更加了解。