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光學(xué)石英玻璃的簡(jiǎn)單介紹

石英玻璃一般采用高純度的硅砂為原料，通過(guò)熔融-淬滅方法(加熱材料到熔化溫度，然后快速冷卻到玻璃的固態(tài)相)制得。

石英晶體的結(jié)構(gòu)是：一個(gè)硅原子周?chē)?個(gè)氧原子，一個(gè)氧原子周?chē)?個(gè)硅原子，構(gòu)成空間的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，硅氧鍵的鍵長(zhǎng)為0.162 nm，硅原子直徑為0.117 nm，氧原子的直徑為0.148 nm，原子之間存在微小的間隙。

近些年來(lái)，我國(guó)光通訊產(chǎn)業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)以及航空航天的高速發(fā)展，給我國(guó)的石英玻璃行業(yè)發(fā)展提供了更廣闊的發(fā)展市場(chǎng)，也驅(qū)動(dòng)著我國(guó)石英玻璃產(chǎn)品水平攀登更高臺(tái)階。

但是，目前我國(guó)生產(chǎn)的可用于領(lǐng)域的石英砂產(chǎn)量低，不能滿足市場(chǎng)需求。光學(xué)鏡片的清潔保護(hù)方法可視磁控濺射真空沉積反射膜上的表面殘留物可用干凈的不起毛的布和商業(yè)溶劑(如油漆稀釋劑、礦物酒精或異丙l醇等)清除。部分原料仍需要進(jìn)口等問(wèn)題都制約著下游的行業(yè)的發(fā)展。因此，提升我國(guó)石英玻璃原材料的技術(shù)與裝備水平、擴(kuò)大電子信息產(chǎn)業(yè)用石英玻璃原材料的產(chǎn)能，打破國(guó)外技術(shù)壟斷，改變當(dāng)前主要依賴進(jìn)口的局面，已成為我國(guó)石英玻璃行業(yè)發(fā)展中一個(gè)急待解決的、具有戰(zhàn)略意義的重要課題。

光學(xué)玻璃的光學(xué)系統(tǒng)常識(shí)

對(duì)于光學(xué)玻璃包含多片薄透鏡的光學(xué)系統(tǒng)，提高透過(guò)率的主要途徑在于減少透鏡表面的反射損耗，如涂敷表面增透膜層等。光學(xué)石英片光學(xué)鏡片經(jīng)過(guò)研磨液細(xì)磨后，其表面尚有厚約2–3m的裂痕層，要消除此裂痕層的方法即為拋光。而對(duì)于大尺寸的光學(xué)零件如天文望遠(yuǎn)鏡的物鏡等，由于其厚度較大，光學(xué)系統(tǒng)的透過(guò)率主要決定于玻璃本身的光吸收系數(shù)。通過(guò)提高玻璃原料的純度以及在從配料到熔煉的整個(gè)過(guò)程中防止任何著色性雜質(zhì)混入，一般可以使玻璃的光吸收系數(shù)小于0.01(即厚度為1厘米的玻璃對(duì)光透過(guò)率大于99%)。

技術(shù)分析光學(xué)石英玻璃的退火測(cè)試

本標(biāo)準(zhǔn)適用于光學(xué)石英玻璃透明石英玻璃退火點(diǎn)的測(cè)試:  

　　1試樣的制備

　　 1.1取直徑為10 1mm，長(zhǎng)約200mm以上、無(wú)氣孔、無(wú)氣線的石英玻璃棒1根，經(jīng)無(wú)水乙醇凈化處理后，用石英玻璃拉絲機(jī)拉絲。但是，目前我國(guó)生產(chǎn)的可用于領(lǐng)域的石英砂產(chǎn)量低，不能滿足市場(chǎng)需求。拉絲速度應(yīng)保持在3.5 0.5m/min間。同時(shí)按等體積原理算出合適的下棒速度，使拉成絲條的標(biāo)稱直徑為0.55mm，公差為 0.01mm.

　　 1.2選取長(zhǎng)為320mm的絲條10根，將絲條兩端燒成直徑為2mm左右的小球，球心應(yīng)與絲條軸線相合。燒球后的試樣長(zhǎng)度應(yīng)在305mm以上（不包括小球）。