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              發布時間:2020-07-25 09:54  









              同樣地﹐如果蝕刻液出現化學不平衡﹐結渣的情況 就會愈加嚴重。目前,我國人造木材行業應用的模具板主要是從歐洲進口,不僅價格昂貴,而且修復困難,因此不銹鋼模具板的國產化勢在必行。 蝕刻液突然出現大量結渣時﹐通常是一個信號﹐表示溶液的平衡出現了問 題, 這時應使用較強的鹽酸作適當的清潔或對溶液進行補加。 另外, 殘膜也會產生結渣物。 量的殘膜溶于蝕刻液中﹐形成銅鹽沈淀。這表示前 道去膜工序做得不徹底, 去膜不良往往是邊緣膜與過電鍍共同造成的結果。



              去邊(Edge bead removal-EBR)--去膠邊的過程,通常在涂膠后將溶劑噴在硅片的背面或前 邊沿上。發動酸泵,讓三氯化鐵溶液在機器內循環,調查溫度表高不能超過50度。 前烘(Soft-bake)-- 在涂膠后用來去除膠溶劑的溫度步驟。 曝光-- 把涂膠后的硅片,暴露在某種形式的射線下,以在膠上產生隱約的圖像 的步驟。 PEB —曝光以后消除膠里的由襯底反射引起的膠里的駐波的溫度步驟。 顯影(Development)-- 在曝光以后分解膠產生掩膜圖案的過程。 后烘 (Hard-bake)—用來去除殘留溶劑,增加膠的沾著力和耐腐能力,在顯影后完成,可以包 括 DUV 固膠。


              化學蝕刻(Chemical etching)-- 氣態物質(中性原子團)與表面反應, 產物必定易揮發,也稱為等離子蝕刻。②電泳填漆:即用本公司的標牌蝕刻填漆機進行填漆——適用于標牌尺寸不大的標牌。 等離子增強蝕刻(Ion-enhanced etching)—單獨使用中性原子團不能形成易揮發產物,具有一定 能量的離子改變襯底或產物;具有一定能量的離子改變襯底或產物層,這樣,化學反應以后 能生成揮發性物質,亦稱為反應離子蝕刻(RIE) 。 濺射蝕刻(Sputter etching)--具有一定能量的離子機械的濺射襯底材料。 蝕刻速率(Etch rate)--材料的剝離速率,通常以?/min,?/sec,nm/min, um/min 為單位計 量。 各向同性蝕刻( Isotropic etch)-- 蝕刻速率在所有方向都是相同的。


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