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發布時間:2020-11-07 12:10  
經過不斷改良和工藝設備發展,亦可以用于航空、機械、化學工業中電子薄片零件精密蝕刻產品的加工,特別在半導體制程上,蝕刻更是不可或缺的技術。
蝕刻:一種將材料使用bai化學反應或物理撞擊作用而du移除的技術。通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻,指通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
自然干燥時間過長造成暗感光。
一般絲網印刷在上膠后用 38-40攝氏度烘干,完成zhi烘干后的網版必須盡快曝光/顯影。
如果制版數量很大,不需要使用烘干設備,可以考慮存放于空調房間(25攝氏度),這樣可以延長未曝光前的保存時間。但是上膠后的網版,一般不允許存放超過4-6小時。1,可能是感光膠與重氮感光劑配比不正確。
2,可能是配置好的zhi感光膠存放于光亮處或溫度較高的地方,或存放時間過長,放置超過72小時。
3,可能是上膠后的絲網烘干溫度過高或時間過長。