義烏光學鍍膜機廠家量大從優「至成真空科技」

光學真空鍍膜設備該如何進行保養

光學真空鍍膜設備主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組限及電柜（控制電柜、電子槍電樞）組成，其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。光學真空鍍膜設備在防止油污染和縮短工作周期等方面具有的性能。

光學真空鍍膜設備工作原理是在高真空狀態下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當的溫度，材料受熱后蒸發成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發源至被蒸發基片距離大，蒸發出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成臘層。

真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什么要注意的嗎?

段時間有一個采購光學鍍膜機的客戶簽訂協議的時候，咨詢我這個問題，真空鍍膜機光學鍍膜加工有沒有什么需要注意的地方。在簽訂協議完成的后一個環節，我們的銷售培訓了大量的設備相關的操作知識和注意事項，客戶也學到了不少相關的知識。今天至成真空小編也再次詳細和大家講解一下真空鍍膜機光學鍍膜加工上應該注意的事項，加強大家的設備方面的知識和技能。

真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什么要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對于單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對于一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k 1)倍四分之一個波長。單層膜只對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大范圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透膜的利用有了很多的經驗，發現了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各業，為人類科技進步作出了重大貢獻。

多弧離子真空鍍膜機鍍膜技術

很多朋友問我關于多弧離子真空鍍膜機真空技術方面的問題，當時給朋友解釋了很多，今天至成小編為大家詳細介紹一下：

多弧離子鍍是采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發金屬，蒸發物是從陰極弧光放電放出的陰極物質的離子，這種裝置不需要熔池，被蒸發的靶材接陰極，真空室為陽極，當觸發電極與陰極靶突然瞬間接觸時，就會引起電弧，在陰極表面產生強烈發光的陰極弧光斑點，斑點直徑在100?m以下，斑點內的電流密度可達103~107A/cm2于是在這一區域內的材料就瞬時蒸發并電離。陰極弧光斑點在陰極表面上，以每秒幾十米的速度做無規則運動，外加磁場用來控制輝點的運動軌跡和速度，為了維持真空電弧，一般要求電壓為–20到–40V。多弧離子鍍的原理是基于冷陰極真空弧光放電理論，該理論認為，放電過程的電量遷移是借助于場電子發射和正離子電流這兩種機制同時存在且相互制約而實現的。

在放電過程中，陰極材料大量蒸發，這些蒸汽分子產生的正離子，在陰極表面附近很短的距離內產生極強的電場，在這樣強的電場作用下，電子以產生以場電子發射而溢出到真空中，而正離子可占總的電弧電流的10%左右，被吸到陰極表面的金屬離子形成空間電荷層，由此產生強電場，使陰極表面上功函數小的點(晶界或裂痕)開始發射電子。個別發射電子密度高的點，電流密度高。焦耳熱使溫度上升又產生熱電子，進一步增加發射電子。這個正反饋作用使電流局部集中。由于電流局部集中產生的焦耳熱使陰極材料表面局部爆發性地等離子化，發射電子和離子，并留下放電痕。同時也放出熔融的陰極材料粒子。發射的離子中的一部分被吸回陰極表面，形成空間電荷層，產生強電場，又使新的功函數小的點開始發射電子。

多弧離子真空鍍膜機的由來

我國在真空鍍膜行業，目前更多的應用都集中在裝飾方面，對能有效地提高關鍵部件使用壽命機械功能薄膜的制備設備、工藝及應用研究方面還遠遠落后于國外先進水平。同時，裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發展，之前的離子鍍膜機已體現出不能滿足裝飾鍍要求的問題。本技術的研發成功，將打破國內機械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國外技術的被動局面；對提高我國裝備制造業的技術水平和真空離子鍍的技術發展都是一個非常好的作用。另外，將制備的耐磨減摩薄膜應用于其它關鍵部件中，起到了非常好的節約能源和提率的作用，可替代部分原來電鍍的工藝，對環境保護起到很好的作用。

目前，國際上機械功能硬質薄膜（特別是刀具用膜層）大多采用陰極電弧沉積技術，但陰極電弧沉積存在的主要技術問題是所制備的膜層表面不夠光潔，有較多的顆粒，影響應用性能；特別是國內制造的陰極電弧沉積設備顆粒問題尤為嚴重。在此技術基礎上引入磁過濾技術，雖可解決表面沉積的顆粒問題，但沉積效率只有原來的1/10左右，并且沉積面積小，從而使生產周期長，制造成本高，不適合大批量鍍膜生產應用。而磁控濺射技術所制備的膜層表面光潔、細膩，沉積速率適中，能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術也存在離化率低（一般在10％），所制備的膜層在硬度、耐磨性及結合力上不如陰極電弧技術所制備的膜層；在進行化學反應性鍍膜（如TiN、TiO2）時，由于金屬粒子的離化率低、反應活性差，必須過量通入反應性氣體，造成磁控靶面的毒化（化學反應），引起蒸發速率急劇降低等一系列雪崩式后果，使得磁控濺射反應鍍膜存在著不穩定性和不可控性。