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發布時間:2020-12-21 03:51  

顯影:在濃度為1~1.2%碳酸鈉溶液中進行顯影,將曝光部分 的光刻油墨感光膜去掉,將需要蝕刻的金屬部分顯露出來;
烘干:將顯影后的坯料放入烘箱進行烘烤;
蝕刻:將顯影并烘干后的坯料放入的噴淋蝕刻機中,采用噴淋 三氯化鐵蝕刻液的蝕刻方式,對坯料進行局部快速蝕刻,蝕刻溫度 25~40℃,時間為4~10min,三氯化鐵蝕刻液組成為:水1000g,無 水三氯化鐵300~340g,磷酸80~100g,溶解后濃度為40~42波美度;

一種將材料使用化學反應或物理撞擊作bai用而移除的技術。通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻,指通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
顯影時,通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用,碳粉被吸到感光鼓曝光區域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。多用在數碼復合機與激光打印機中。