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發布時間:2021-09-14 13:29  







半導體加工我們繼續革新技術解決方案,這些解決方案將會提升制程正常運轉時間、產量、吞吐量與安全認證水平,同時通過減輕不利于環境的排放、延長產品使用壽命并降低持續服務成本,努力協調平衡往往相互沖突的更低擁有成本要求。
所有居于地位的制程工具 OEM,以及全球每一家主要半導體工廠都采用了我們的系統,因為它們能夠滿足成熟制程與發展中制程的具體要求。提供干式真空泵、渦輪分子泵與使用點減排系統等各種系統,用來優化從輕負荷制程到超重負荷制程的各項應用的性能表現。 平版印刷平版印刷(即晶圓的圖案形成)是半導體 制程中的一個關鍵步驟。冷凝半導體制程的某些副產品含有氣體,當氣體分壓增加或與冷表面接觸時,這些氣體會從氣相變為固相。雖然傳統甚至浸潤式平版印刷 一般不需要真空環境,但遠紫外 (EUV) 平版印刷和電子束平版印刷卻需要真空 泵。Edward可以讓您有效應對這兩種應用。
EUV 平版印刷泵送解決方案
多重圖案形成技術有其存在的價值, 但以后可能需要使用 EUV 平版印刷,因為輕型 EUV 系統 提供極短的波長。要讓您的系統具有 性能,真空環境是關鍵。真空系統的 清潔性尤其重要,它有助于延長維修間隔。低振動的清潔真空對于確保系統的精密性和長正常運行時間至關重要。我們 與 EUV 平版印刷 OEM 和光源 OEM 合作開發了 精密真空系統,可為您進行的大型投資提供 可靠性。
電子束平版印刷解決方案
電子束平版印刷在硅晶片的圖案形成中 具有重要作用。低振動的清潔真空對于確保系統的精密性 和長正常運行時間至關重要。
我們的產品解決方案
您可能需要使用渦輪分子泵 (TMP) 以便 在您的制程工具上實現超高真空。我們的 STP 系列 TMP 采用 完全磁懸浮轉子以降低艙室污染風險并延長 維修間隔。集成式系統和生產層解決方案僅僅有泵和氣體減排設備,您仍然不能隨時運轉您的制程。目前開發的產品通過將控制器集成到 泵本身中來降低總成本和占地面積,不再需要 外部控制器和控制器與泵之間的沉重控制 電纜。

設備的參數相同,但是真空泵內在的技術不一樣,所以可靠性還有噪音震動,這些方面的數據也都會存在差異,我們作出選擇的過程中,盡量的去選擇那些可靠性更高,噪聲更低,震動更小的設備應用的過程中,才能夠給我們帶來了更多的保障,如果設備內在的技術不成熟,使用的過程中存在著各種問題,那么不僅會對周圍的環境帶來影響,也會給我們造成不利的問題發生,因此大家應該正確的去認識。適用于研發實驗室的實驗室真空系統我們提供豐富多樣的真空產品,以應對當今研發實驗室所面臨的種種挑戰。
在真空泵機組定期一切換過程中,多次發生過類似異常。在備用真空泵機組啟動、原運行泵停運后。凝汽器真空便開始緩慢下降,約15~30min后可下降5~6kPa,在此過程中,發現氣水分離器內處于負壓狀態,這是一種異常現象。服務更換為了實現您的制程正常運行時間目標,在計劃內或計劃外停機情況下,您需要快速響應。好凱德真空科技分析認為,真空泵機組工作不正常,導致噴射器抽吸力降低,使得凝汽器真空下滑。