PVD離子鍍膜機廠家價格「至成真空科技」

真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點

離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發展起來的沉積技術。在真空條件下，采用適當的方式使鍍膜材料蒸發，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發物質部分電離，在氣體離子和被蒸發物質離子的轟擊下，蒸發物質或其反應產物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據鍍膜材料不同的蒸發方式和氣體的離化方式，構成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優點。

表離子鍍的種類及其特點

種類蒸發源離化方法工作環境特點用途

直流放電法電阻輝光放電dc:0.1kv～5kv惰性氣體1pa，0.25ma/cm2結構簡單，膜層結合力強，但鍍件溫升高，分散性差！耐熱，潤滑等鍍件

弧光放電法電子束、燈絲弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa離化率高，易制成反應膜，可在高真空下成膜，利于提高質量切削工具、金屬裝飾等鍍件

空心陰極法空心陰極等離子體電子束dc:0v～200v惰性氣體或反應氣體離化率高，蒸發速度大，易獲得高純度膜層裝飾、耐磨等鍍件

調頻激勵法電阻、電子束射頻電場13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性氣體或反應氣體離化率高，膜層結合力強，鍍件溫升低，但分散性差光學、半導體等鍍件

電場蒸發法電子束二次電子dc:1kv～5kv真空不純氣體少，能形成較好的膜電子元件

多陰極法電阻、電子束熱電子dc:0v～5kv惰性氣體或反應氣體低速電子離化效果好裝飾、電子、精密機械等零件

聚焦離子束法電阻聚集離子束dc:0v～5kv惰性氣體因離子聚束，膜層結合力強電子元件

活性反應法電子束二次電子dc:200v反應氣體o2、n2、ch4、c2h4等金屬與反應氣體組合能制備多種傾倒物膜層電子、裝飾、耐磨等鍍件

真空鍍膜機真空鍍膜機廠家真空鍍膜設備工藝清洗

真空鍍膜機真空工藝進行前應清洗真空材料，從工件或系統材料表面清除污染物；車燈鍍膜機零部件的表面清洗處理也是很有必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源不僅會使真空系統不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同時也會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

真空鍍膜機污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”，多弧離子鍍膜機根據污染物的物理狀態可分為固體、氣體及液體，它們以膜或散粒形式存在。就其化學特征來看，它可以處于離子態或共價態，可以是無機物或有機物。

真空鍍膜機暴露在空氣中的表面易受到污染，污染的來源有多種，起初的污染通常是表面本身形成過程中的一部分。吸附現象、化學反應、浸析和干燥過程、機械處理以及擴散和離析過程都使各種成分的表面污染物增加。

雙色真空鍍膜機PVD技術的應用范圍及優缺點

很多人對真空鍍膜機PVD技術的了解不是特別全，也不知道具體是應用到哪些行業，以及它在實際運用過程有哪些優缺點?至成真空小編現在詳細和大家介紹一下:

真空鍍膜機PVD技術其應用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空鍍膜機PVD技術其優點是:

與傳統磁控濺射單色PVD技術相比，雙色PVD工藝更為復雜，流程更為繁雜，生產難度高，但外觀效果，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統磁控濺射單色PVD技術要在實現雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎上把需要實現另一種顏色的區域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來的區域就只能表現金屬的本色，表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度為HV600以上）。

真空電弧離子鍍膜技術

真空電弧離子鍍膜技術不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進行鍍膜；可以鍍金屬膜，氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜，還可以鍍氮化鈦摻金膜等。電弧離子鍍膜廣泛應用于工具、模具的超硬涂層，汽車輪轂、高爾夫球具、鐘表、酒店用品、衛浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領域。真空鍍膜機鍍膜技術及設備在當今和未來都擁有十分廣闊的應用領域和發展前景，特別是在制造大規模集成電路的電學膜；在數字式縱向與橫向均可磁化的數據紀錄儲存膜；在能充分展示和應用各種光學特性的光學膜；在計算機顯示用的感光膜；在TFT、PDP平面顯示器上的導電膜和增透膜；在建筑、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；在包裝領域用防護膜、阻隔膜；在裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜；在工、模具上應用的耐磨超硬膜：在納米材料研究方面的各種功能性薄膜等等都是真空鍍膜技術及設備在廣泛應的基礎上得到的不斷發展的領域。