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離子鍍

在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分電離，并在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下，將蒸發物質或其反應物沉積在基片上的方法?？蓪㈦x子發生源與工作室分離，克服了濺射鍍膜為了持續放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷，高能離子對襯底和沉積薄膜表面的轟擊保證了薄膜的附著力和質量，是一種結合了蒸發鍍膜和濺射鍍膜優勢的PVD技術。首先，帶有正電位的引弧針（陽極）靠近帶有負電位的靶材（陰極），陰陽兩極距離足夠小時，兩極間的氣體會被擊穿，形成弧電流，這與電焊的引弧相類似。

根據離化方式的不同，常用的離子源有考夫曼離子源、射頻離子源、霍爾離子源、冷陰極離子源、電子回旋離子源等。

離子鍍技術早由D. M. Mattox于1963年提出并付諸實踐的。其原理是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時，把蒸發物或其他反應物鍍在基片上的工藝。

根據膜層粒子的獲得方式，離子鍍可分為蒸發型離子鍍和濺射型離子鍍，其中蒸發型離子鍍根據放電原理不同又可分為直流二級型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。

鍍層附著性能好

普通真空鍍膜時，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，離子高速轟擊工件時，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現象發生,可見附著多么牢固，膜層均勻，致密。7、禁止使用含漂白成分以及研磨劑的洗滌液、鋼絲球、研磨工具等來清洗，為避免殘余洗滌液，腐蝕表面，洗滌結束時要用潔凈水沖洗表面。

PVD技術的應用范圍及優缺點

其應用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

其優點是:

與傳統磁控濺射單色PVD技術相比，雙色PVD工藝更為復雜，流程更為繁雜，生產難度高，但外觀效果極佳，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。

傳統磁控濺射單色PVD技術要在實現雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎上把需要實現另一種顏色的區域激光鐳雕掉或者磨掉。