國產icp光譜儀廠家貨真價實

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統

儀器采用徑向觀測與軸向觀測設計，適應亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。

優化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩定性，開機即可測量。 包圍式立體控溫系統，保障光學系統長期穩定無漂移。

光源

固態射頻發生器，穩定，體積小巧，，匹配速度快

冷錐消除尾焰技術，地降低自吸效應和電離干擾，從而獲得更寬的動態線性范圍和更 低的背景，保證準確的測量結果。 具有綠色節能待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節約使用成本。

簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，的位置重現。 實時監控儀器運行參數，CAN工業現場總線，保障通訊可靠。

進樣系統

簡潔的炬管安裝設計，自動定位炬管位置，的位置重現。

ICP光譜儀使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩定。 多通道12滾輪蠕動泵，提升樣品導入穩定性。

檢測器

大面積背照式CCD檢測器,全譜段響應，高紫外量子化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動態范

圍和極快的信號處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，從而獲得更為快速、準確的分析結果。

ICP光譜儀具有同類產品中靶面尺寸，像素，單像素面積24μm X 24μm，三級半導體制冷,制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩定性。

軟件系統

人性化的界面設計，流暢易懂，簡便易用，針對分析應用優化的軟件系統，無須復雜的方法開發， 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設置，直觀的測試結果顯示。

安全防護

電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護，避免用戶誤操作可能帶來的風險 防紫外觀測窗

Plasma 2000 技術特點

1.  優異的光學系統

2.  固態有效射頻發生器，體積更加小巧

3.  流程自動化，狀態監控及自動保護

4.  科研級檢測器，極高的紫外量子化效率

5.  強大分析譜線

6.  信息直觀豐富

7.  多窗口多方法

8.  編輯功能強大

9.  智能譜圖標定

10. 智能干擾矯正

想了解更多產品信息您可撥打公司熱線進行咨詢！鋼研納克竭誠為您服務！

鋼研納克Plasma 1500單道掃描ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質、材料、環境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。

1 單道掃描ICP光譜儀采用大面積高刻線密度平面全息光柵，Czerny-Turner結構光學系統，通光量大，分辨率高。

2 雙光柵設計，整個波長分布范圍內均具有極高光譜分辨率，國產ICP光譜儀設計。

3 有效穩定的固態射頻發生器，固態光源ICP光譜儀體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運行及優異的長期穩定性。

4 雙通道高靈敏PMT檢測器，寬動態范圍信號處理技術，具有優異的檢測能力。紫外光譜范圍內自動切換使用紫外PMT。

5 功能強大的軟件系統，簡化分析方法的開發過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。