真空鍍鈦廠家服務全國發貨

（1）成膜溫度低。鋼鐵行業中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質，而真空鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規鍍膜工藝的弊端。（2）蒸發源選擇自由度大。可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點限制，可鍍種類眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復合膜。（3）不使用有害氣體、液體，對環境無不利影響。在當前越來越重視環保的大趨勢下，這點極其可貴。

PVD(物理氣相沉積)技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來，真空離子鍍技術的發展是zui快的，它已經成為了當代zui先進的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應生長法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質源是固態物質，經過“蒸發或濺射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態物質涂層。

PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術的發展是zui快的，它已經成為當今zui先進的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。PVD鍍膜技術的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。

熱鍍基板可以是熱軋也可以是冷軋基板，一些外貿詢單中會用HX或HC這種簡稱來代指熱軋基板或是冷軋基板。這是源自歐標牌號的命名規則，當然是不太規范的。

此外，在某些行業中，GI常被用來代指熱鍍純鋅鍍層、GA代指熱鍍鋅鐵鍍層、ZAM代指鋅鎂鍍層。

主流的熱鍍鍍層分為六大類，分別是：

1、熱鍍純鋅（Z）

2、熱鍍鋅鐵合金（ZF）

3、熱鍍鋅鋁（ZA）

4、熱鍍鋁鋅（AZ）

5、熱鍍鋁硅（AS）

6、熱鍍鋅鎂（ZM）