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發布時間:2020-11-05 18:29  






無論是對于CO2激光,采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡,采用鍺、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學元件材料,還是對于YAG激光采用普通光學玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學元件材料,都不能達到全反射鏡的99%以上要求。不同應用時輸出鏡有不同透過率的要求,因此必須采用光學鍍膜方法。對于CO2激光燈中紅外線波段,常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等;對于YAG激光燈近紅外波段或可見光波段,常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外,還可以鍍對某波長增反射、對另一波長增透射的特殊膜,如激光倍頻技術中的分光膜等。影響一面平面透鏡的透光度有許多成因。 次數用完API KEY 超過次數限制

在室溫(25℃)和氣體壓力為p(Pa)的條件下,殘余氣體分子的平均自由程為λ=6.65×10-1/pcm(2)由上式計算可知,在室溫下,p=10-2Pa時,λ=66.5cm,即一個分子在與其它分子發生兩次碰撞之間約飛行66.5cm。碰撞圖2是蒸發粒子在飛向基片途中發生碰撞的比例與氣體分子的實際路程對平均自由程之比值的曲線。從圖中可以看出,當λ=L時,有63%的蒸發分子會發生碰撞。如果平均自由程增加10倍,則散射的粒子數減少到9%,因此,蒸發粒子的平均自由程必須遠遠大于蒸距才能避免蒸發粒子在向基片遷移過程中與殘余氣體分子發生碰撞,從而有效地減少蒸發粒子的散射現象。目前常用的蒸發鍍膜機的蒸距均不大于50cm。 次數用完API KEY 超過次數限制

同時幾種涂層的硬度均高于HV3000,而且在高溫下可以有效的保持硬度,可以抵御高溫金屬液體對模具造成的應力變形。有涂層公司針對此問題研發了真空PVD鍍膜涂層前處理的新技術,結合其它表面技術和真空PVD鍍膜涂層復合作用,在改善液體金屬粘模和熱龜裂方面取得了一定的成績。例如HCVAC研發了一款設備可以在同時完成壓鑄模具的軟氮化 真空PVD鍍膜涂層,有效的解決了傳統涂層和氮化基體之間結合力差的問題,進一步提高了壓鑄模具的使用壽命。還有大多數公司則采用厚涂層的概念通過沉積足夠厚度的涂層來提高模具的使用壽命。 次數用完API KEY 超過次數限制

在信息存儲領域中薄膜材料作為信息記錄于存儲介質,有其得天獨厚的優勢:由于薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉極為迅速;與膜面平行的雙穩態狀態容易保持等。為了更精密地記錄與存儲信息,必然要采用鍍膜技術。13.在傳感器方面在傳感器中,多采用那些電氣性質相對于物理量、化學量及其變化來說,極為敏感的半導體材料。此外,其中,大多數利用的是半導體的表面、界面的性質,需要盡量增大其面積,且能工業化、低價格制作,因此,采用薄膜的情況很多。14.在集成電路制造中晶體管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線(多晶硅、鋁、銅及其合金)等,多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。可見,氣相沉積是制備集成電路的核心技術之一。 次數用完API KEY 超過次數限制