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              發布時間:2020-10-17 14:46  






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              蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。經營一個客戶需要長期的努力,但是趕走一個客戶只需要一次的機會就夠了。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經歷成膜過程,終形成薄膜。

              真空鍍膜的工藝特性

              納米級厚度、膜厚均勻。真空鍍膜膜層厚度僅數十至數百納米(一般s0.2um) ,膜層各部位厚度極為均勻。例:鍍鋁層厚度達0.9nm時就可導電,達到30nm時性能就和固態鋁材相同,銀鍍層小于5nm時不能導電。各塑膠產品本身具有約0.5um的粗糙度,結合條因素故塑膠表面均在鍍膜前噴涂UV進行封閉流平,以達到理想的鏡面效果。在真空中,氣體分子密度低,在某些情況下,真空可以近似地看作沒有氣體“污染”的空間。因鍍膜層太薄,故對底涂UV材料外觀要求近乎苛刻,這就要求涂裝室潔凈度極高。同時產品外觀面積越大,不良率就可能就越高(目前奧科生產車間潔凈度為10000級,噴涂室、烤箱、鍍膜車間潔凈度3000級)。



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