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發(fā)布時(shí)間：2020-08-04 06:08
刻蝕過程
普通的刻蝕過程大致如下：先在表面涂敷一層光致抗蝕劑，然后透過掩模對抗蝕劑層進(jìn)行選擇性曝光，由于抗蝕劑層的已曝光部分和未曝光部分在顯影液中溶解速度不同，經(jīng)過顯影后在襯底表面留下了抗蝕劑圖形，以此為掩模就可對襯底表面進(jìn)行選擇性腐蝕。如果襯底表面存在介質(zhì)或金屬層，則選擇腐蝕以后，圖形就轉(zhuǎn)移到介質(zhì)或金屬層上。
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離子束刻蝕的入射角
在離子束刻蝕過程中，選擇合適的入射角可以提高刻蝕效率，這只是一個(gè)方面。另一個(gè)方面是靠合適的入射角度控制刻蝕圖形的輪廓。下圖給出了不同角度的刻蝕結(jié)果。
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離子束刻蝕機(jī)
離子束刻蝕機(jī)由真空室、工作臺、快門、真空抽氣系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、電源和 電器系統(tǒng)等主要部分組成,圖1-1所示為離子束刻蝕機(jī)的工作原理圖。該機(jī)在正常工作 時(shí),首先將真空室的壓力抽至2×10-3Pa或更低,再調(diào)節(jié)Ar氣流量,使真空室壓力保持 在1×10-2~2×10-2Pa(如需要輔助氣體,如O2、CH2等,則可按一定比例與之混合), 然后啟動離子源各電源,使離子源正常工作,從離子源引出一定能量和密度的離子束 被中和器發(fā)射的電子中和后,轟擊工件進(jìn)行濺射刻蝕。
