化學氣相沉積設(shè)備報價擇優(yōu)推薦【沈陽鵬程】

化學氣相沉積的特點

以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司為您提供，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。

特點

1）在中溫或高溫下，通過氣態(tài)的初始化合物之間的氣相化學反應(yīng)而形成固體物質(zhì)沉積在基體上。

2）可以在常壓或者真空條件下(負壓“進行沉積、通常真空沉積膜層質(zhì)量較好）。

）采用等離子和激光輔助技術(shù)可以顯著地促進化學反應(yīng)，使沉積可在較低的溫度下進行。

4）涂層的化學成分可以隨氣相組成的改變而變化，從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層。

5）可以控制涂層的密度和涂層純度。

6）繞鍍件好。可在復(fù)雜形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜。適合涂覆各種復(fù)雜形狀的工件。由于它的繞鍍性能好，所以可涂覆帶有槽、溝、孔，甚至是盲孔的工件。

7）沉積層通常具有柱狀晶體結(jié)構(gòu)，不耐彎曲，但可通過各種技術(shù)對化學反應(yīng)進行的氣相擾動，以改善其結(jié)構(gòu)。

8）可以通過各種反應(yīng)形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物涂層。

化學氣相沉積技術(shù)在材料制備中的使用

化學氣相沉積技術(shù)生產(chǎn)多晶/非晶材料膜：

化學氣相沉積法在半導(dǎo)體工業(yè)中有著比較廣泛的應(yīng)用。比如作為緣介質(zhì)隔離層的多晶硅沉積層。在當代，微型電子學元器件中越來越多的使用新型非晶態(tài)材料，這種材料包括磷硅玻璃、硼硅玻璃、SiO2以及 Si3N4等等。由于等離子體中的電子溫度高達10000K，電子與氣相分子的碰撞可以促進反應(yīng)氣體分子的化學鍵斷裂和重新組合，生成活性更高的化學基團，同時整個反應(yīng)體系卻保持較低的溫度。此外，也有一些在未來有可能發(fā)展成開關(guān)以及存儲記憶材料，例如氧化銅-氧化銅等都可以使用化學氣相沉積法進行生產(chǎn)。

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