微弧氧化技術廠家質量材質上乘

微弧氧化原理

       微弧氧化或等離子體電解氧化表面陶瓷化技術，是指在普通陽極氧化的基礎上，微弧氧化技術 利用弧光放電增強并ji活在陽極上發生的反應，從而在以鋁、鈦、鎂等金屬及其合金為材料的工件表面形成的強化陶瓷膜的方法，微弧氧化電源是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加電壓，微弧氧化使工件表面的金屬與電解質溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，達到工件表面強化的目的。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源、鋁合金微弧氧化技術、鈦合金微弧氧化技術。

微弧氧化電解液組成及工藝條件

　     微弧氧化電解液組成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH為11～13；溫度為20～50℃；陰極材料為不銹鋼板；電解方式為先將電壓迅速上升至300V，并保持5～10s，然后將陽極氧化電壓上升至450V，電解5～10min。微弧氧化技術為提高鋁材料的表面性能，常用的方法有電鍍，激光，陽極氧化等，其中微弧氧化技術是基于陽極氧化發展起來的一種先進的表面強化處理技術。

       兩步電解法，靠前步：將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化5min；第二步：將經靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化15min。在開通電源后，正脈沖電壓快速升高，電流迅速下降，作為陽極的待氧化試樣開始進行陽極氧化,產生大量微小氣泡，同時在試樣表面形成了一層極薄的鈍化膜。陰極材料為：不銹鋼板；溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術、微弧氧化生產線

微弧氧化手電解質溶液及其組分的影響

       微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術關鍵。不同的電解液成分及氧化工藝參數，所得膜層的性質也不同。微弧氧化電解液多采用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液（如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等），其在溶液中的存在形式較好是膠體狀態。1、微弧氧化采用弱堿性溶液，對周圍環境不造成污染，屬于清潔加工工藝和環保型表面處理技術，微弧氧化中只放出氫氣、氧氣，對人體無害。溶液的pH范圍一般在9～13之間。根據膜層性質的需要，可添加一些有機或無機鹽類作為輔助添加劑。在相同的微弧電解電壓下，電解質濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。微弧氧化生產線、微弧氧化電源

微弧氧化技術的特點

1、微弧氧化采用弱堿性溶液，對周圍環境不造成污染，屬于清潔加工工藝和環保型表面處理技術，微弧氧化中只放出氫氣、氧氣，對人體無害。

2、工藝簡單，特別對于工業樣品的預處理不像陽極氧化要求的那樣嚴格和繁雜，只要求樣品表面去污去油，不需要去除表面的自然氧化層，也不需要表面打磨。微弧氧化技術、微弧氧化工藝、微弧氧化電源、微弧氧化生產線