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電子束蒸發的優點在于：

電子束的光斑可以隨意調整，可以一槍多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發任意鍍膜材料，維修方便，蒸發速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機械強度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，在產品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子槍一樣節約資源。目前運用多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作簡單的一種，所以運用非常廣。

真空鍍膜機真空的清洗方法,你知道嗎?

真空鍍膜機真空清洗一般定義為在真空工藝進行前，先從工件或系統材料表面清除所不期望的物質的過程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源會使真空系統不能獲得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

一．真空加熱清洗

將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發雜質蒸發來達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關。在超高真空下，為了得到原子級清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時，這種處理方法也會產生副作用。由于加熱的結果，可能發生某些碳氫化合物聚合成較大的團粒，并同時分解成碳渣

二．紫外線輻照清洗

利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用．形成較簡單易揮發分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加．

真空鍍膜機使用前的準備工作

在使用真空鍍膜機前，必須詳閱使用說明書，熟悉整機結構原理，各部件的作用和操作方法。

1、確認水、電、氣均已安裝無誤后，先試運行滑閥泵、羅茨泵，其轉動方向要與各泵規定的方向一致。

2、檢查設備的各個動力傳動裝置運轉是否正常。

3、檢查卷繞車的開動情況，檢查卷繞車與真空罐對接的密封是否可靠，檢查裝于導軌上的各個行程開關是否工作正常，檢查履帶的安放及定位情況是否完好。

4、按照從低真空到高真空的次序，逐級調試真空系統，檢查各個環節的密封是否可靠，各個閥門開閉是否靈活，霍爾開關位置是否正確，各真空泵均應運轉平穩、無異常振動、無異常噪音。

磁控濺射鍍膜設備如何使用效率才高?

磁控濺射鍍膜設備如何使用效率才高？ 這就需要增加氣體的理化效率。增加氣體的離化效率能夠有效的提高濺射的效率。 通常在健身過程中，經過加速的入射離子轟擊靶材陰極表面的時候，會產生電子發射，而這些在陰極表面產生的電子開始向陽極加速進入負輝光區，和中性氣體原子進行碰撞，產生的自持的輝光放電所需離子。電子在平均只有程隨著電子能量的增大而增大，隨著氣壓的增大而減小，特別是在遠離陰極的地方產生，它們的熱壁損失也是非常大的，這主要是因為其離化效率低。 因此可以加上一平行陰極表面的磁場就能夠將初始電子限制在陰極范圍內，能夠有效的增加氣體原子的梨花效率，從而提高磁控濺射鍍膜設備的濺射效率。