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              磁控鍍膜機公司多重優惠「多圖」

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              發布時間:2021-03-19 15:41  






              磁控濺射介紹

              以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供,今天我們來分享磁控濺射產品的相關內容,希望對同行業的朋友有所幫助!

              用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與原子發生碰撞,使其電離產生出Ar正離子和新的電子。但若濺射絕緣體(如陶瓷),則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強的電容,這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時接地技術很復雜,因而難大規模采用。為解決此問題,發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶,加入氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化,與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。



              雙靶磁控濺射鍍膜機的特點有哪些?

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售磁控濺射產品,以下信息由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供。

              產品特點

              1:此款鍍膜儀配置有兩個靶槍:一個靶槍配套的是射頻電源,用于非導電靶材的濺射鍍膜;一個靶槍配套的是直流電源,用于導電材料的濺射鍍膜

              2:該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜,應用非常廣泛。

              3:該鍍膜儀體積較小,且配備有觸摸屏控制面板,操作方便。



              直流磁控濺射技術的原理

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業生產、銷售磁控濺射產品,我們公司堅持用戶為上帝,想用戶之所想,急用戶之所急,以誠為本,講求信譽,以產品求發展,以質量求生存,我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創輝煌。

              直流磁控濺射技術其原理是:在磁控濺射中,由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運動軌跡會發生彎曲甚至產生螺旋運動,其運動路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數,使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,降低薄膜污染的傾向;另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量,因而可以在很大程度上改善薄膜的質量。想要了解更多沈陽鵬程真空技術有限責任公司的相關信息,歡迎撥打圖片上的熱線電話。同時,經過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時,已變成低能電子,從而不會使基片過熱。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優點。



              自動磁控濺射系統有哪些特點?

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售磁控濺射產品,我們為您分析該產品的以下信息。

              自動磁控濺射系統產品特點:

              不銹鋼腔體

              晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

              帶觀察視窗的腔門易于上下的載片

              基于LabView軟件的PC計算機控制

              帶密碼保護功能的多級訪問控制

              完全的安全聯鎖功能

              預真空鎖以及自動晶圓片上/下的載片



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