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從鍍膜的原理及特點(diǎn)看，真空蒸鍍工件不帶電，真空條件下金屬加熱蒸發(fā)沉積到工件表面，沉積粒子的能量與蒸發(fā)時的溫度對應(yīng)。下面說一下陰極真空磁控濺射法，通過磁控濺射，在優(yōu)質(zhì)浮法玻璃的表面鍍一層或多層金屬、或金屬化合物薄膜。濺射的工件為陽極，靶為陰極，利用原子的濺射作用把靶材原子擊出而沉積在工件表面上，沉積原子的能量由被濺射原子的能量分布決定。離子鍍的工件為陰極，蒸發(fā)源為陽極，進(jìn)入輝光放電空間的金屬原子離子化后奔向工件，并在工件表面沉積成膜，沉積過程中離子對基片表面、膜層與基片的界面以及膜層本身都發(fā)生轟擊作用，粒子的能量決定于陰極上所加的電壓。

物理q相沉積法真空鍍膜技術(shù)（由于這種方法基本上都是處于真空環(huán)境下進(jìn)行的，因此稱它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g(shù)）。真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。

真空鍍膜技術(shù)是使置待鍍金屬和被鍍塑料制品位于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。

真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

真空蒸鍍是將沉積材料與工件同放在真空室中，然后加熱沉積材料使之迅速熔化蒸發(fā)，當(dāng)蒸發(fā)原子與冷工件表面接觸后便在工件表面上凝結(jié)形成具有一定厚度的沉積層日。

電子束蒸發(fā)源的優(yōu)點(diǎn)為：①電子束轟擊熱源的束流密度高，能獲得遠(yuǎn)比電阻加熱源更大的能量密度。可以使高熔點(diǎn)（可高達(dá)3000°C以上）材料蒸發(fā)，并且能有較高的蒸發(fā)速度；②由于被蒸發(fā)材料是置于水冷堆鍋內(nèi)，因而可避免容器材料的蒸發(fā)，以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應(yīng)，這對提高鍍膜的純度極為重要；鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：金屬過渡層：過渡層能有效的減小膜-基或不同鍍層間因材料熱膨脹系數(shù)等物理性能不同而形成的應(yīng)力，提高結(jié)合力，但是金屬過渡層太厚容易引起基體軟化，結(jié)合力反而會變差。③熱量可直接加到蒸鍍材料的表面，因而熱，熱傳導(dǎo)和熱輻射的損失少。