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發布時間:2020-12-12 13:48  






將納米氮化鈦添加到TiN/Al2O3復相納米陶瓷中,通過各種方法(如機械混合法)等將其混合均勻,得到的這種含有納米氮化鈦顆粒的陶瓷材料內部便形成導電網絡。這種材料可作為電子元件應用于半導體工業中。
(6)在鎂碳磚中添加一定量的TiN,能夠使鎂碳磚的抗渣侵蝕性得到很大程度的提高。
(7)氮化鈦是一種優良的結構材料,可用于噴汽推進器以及火箭等。在軸承和密封環領域也多用氮化鈦合金,凸顯了氮化鈦優異的應用效果。 次數用完API KEY 超過次數限制

殘余氣體分子撞擊著真空室內的所有表面,包括正在生長著的膜層表面。在室溫和10-4Pa壓力下的空氣環境中,形成單一分子層吸附所需的時間只有2.2s。可見,在蒸發鍍膜過程中,如果要獲得高純度的膜層,必須使膜材原子或分子到達基片上的速率大于殘余氣體到達基片上的速率,只有這樣才能制備出純度好的膜層。這一點對于活性金屬材料基片更為重要,因為這些金屬材料的清潔表面的粘著系數均接近于1。在10-2Pa~10-4Pa壓力下蒸發時,膜材蒸汽分子與殘余氣體分子到達基片上的數量大致相等,這必將影響制備的膜層質量。 次數用完API KEY 超過次數限制

氣態的原子、分子在真空中經過很少的碰撞遷移到基體。(3)鍍料原子、分子沉積在基體表面形成薄膜。(二)蒸發源將鍍料加熱到蒸發溫度并使之氣化,這種加熱裝置稱為蒸發源。zui常用的蒸發源是電阻蒸發源和電子束蒸發源,特殊用途的蒸發源有高頻感應加熱、電弧加熱、輻射加熱、激光加熱蒸發源等。(三)真空蒸鍍工藝實例以塑料金屬化為例,真空蒸鍍工藝包括:鍍前處理、鍍膜及后處理。真空蒸鍍的基本工藝過程如下:(1)鍍前處理,包括清洗鍍件和預處理。具體清洗方法有清洗劑清洗、化學溶劑清洗、超聲波清洗和離子轟擊清洗等。 次數用完API KEY 超過次數限制