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              NR9 3000PY光刻膠報(bào)價(jià)質(zhì)量材質(zhì)上乘【賽米萊德】

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              發(fā)布時(shí)間:2021-01-16 19:06  






              PCB穩(wěn)定

              PCB被譽(yù)為'電子產(chǎn)品',廣泛應(yīng)用于各個(gè)電子終端。2016年,全球PCB市場規(guī)模達(dá)542.1億美元。國外研究機(jī)構(gòu)預(yù)測,PCB市場年復(fù)合增長率可達(dá)3%,到2020年,PCB全球市場規(guī)模將達(dá)到610億美元;光刻膠存儲(chǔ)條件及操作防護(hù)光刻膠是一種可燃液體,儲(chǔ)存條件應(yīng)符合對應(yīng)的法規(guī),不要與強(qiáng)氧化劑混合,存放在通風(fēng)良好的地方,保持容器密閉,避免吸入蒸汽或霧氣,避免接觸眼睛、皮膚或衣服,操作后徹底清洗。中國在2020年P(guān)CB產(chǎn)值有望達(dá)到311億美元,在2015-2020年期間,年復(fù)合增長率略高于國際市場,為3.5%。得益于PCB行業(yè)發(fā)展剛需,我國PCB光刻膠需求空間巨大。



              PR1-1500A1NR9 3000PY光刻膠報(bào)價(jià)

              正性光刻膠的金屬剝離技術(shù)

              正性膠的金屬剝離工藝對于獲得難腐蝕金屬的細(xì)微光刻圖形比常規(guī)的光刻膠掩蔽腐蝕法顯示了優(yōu)越性。本文首先對金屬剝離工藝中的正、負(fù)光刻膠的性能作了對比分析。認(rèn)為正性光刻膠除圖形分辨率高而適應(yīng)于微細(xì)圖形的掩膜外,它還具有圖形邊緣陡直, 去膠容易等獨(dú)特性能,比負(fù)性光刻膠更有利于金屬剝離工藝。然后給出了具體的工藝條件,并根據(jù)正性光刻膠的使用特點(diǎn)指出了工藝中的關(guān)鍵點(diǎn)及容易出現(xiàn)的問題。如正性光刻膠同GaAs表面的粘附性較差,這就要求對片子表面的清潔處理更為嚴(yán)格。為了高止光刻圖形的漂移控制光刻圖形的尺寸,對曝光時(shí)同特別是顯影液溫度提出了嚴(yán)格的要求。由于工藝中基本上不經(jīng)過腐蝕過程,膠膜的耐腐蝕性降到了次要地位。30.想請教國產(chǎn)光刻膠不能達(dá)到膜厚要求,進(jìn)口的有沒有比較好的光刻膠啊。


              發(fā)展

              Futurrex在開發(fā)產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長的歷史

              我們的客戶一直在同我們共同合作,創(chuàng)造出了很多強(qiáng)勢的專利產(chǎn)品。

              在晶體管(transistor) ,封裝,微機(jī)電。顯示器,OLEDs,波導(dǎo)(waveguides) ,VCSELS,

              成像,電鍍,納米碳管,微流體,芯片倒裝等方面。我們都已經(jīng)取得一系列的技術(shù)突破。

              目前Futurrex有數(shù)百個(gè)專利技術(shù)在美國專利商標(biāo)局備案。

              Futurrex 產(chǎn)品目錄

              正性光刻膠

              增強(qiáng)粘附性正性光刻膠

              負(fù)性光刻膠

              增強(qiáng)粘附性負(fù)性光刻膠

              先進(jìn)工藝負(fù)性光刻膠

              用于lift-off工藝的負(fù)性光刻膠

              非光刻涂層

              平坦化,保護(hù)、粘接涂層

              氧化硅旋涂(spin-on glas)

              摻雜層旋涂

              輔助化學(xué)品

              邊膠清洗液

              顯影液

              去膠液

              Futurrex所有光刻產(chǎn)品均無需加增粘劑(HMDS)


              行業(yè)推薦