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發布時間:2021-09-28 09:57  





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簡述
真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。
真空鍍膜特點
編輯鍍鋁薄膜與鋁箔復合材料相比具有以下特點:(1)大大減少了用鋁量,節省了能源和材料,降低了成本,復合用鋁箔厚度多為7~9pm,而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0.05n左右,其耗鋁量約為鋁箔的1/140~1/180,且生產速度可高達450m/min。(2)具有優良的耐折性和良好的韌性,很少出現和裂口,無揉曲龜裂現象,因此對氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。
開發成功
過去無論是直接法或轉移法生產真空鍍金屬薄膜,均是間隙式成批進行的。其方式是單爐生產,逐次抽成真空。亦即將卷筒狀被蒸鍍基材裝人真空蒸鍍爐中后,按規定要求抽成真空,并開始蒸鍍。待該卷基材全部蒸鍍完畢,打開爐門,解除真空狀態,取出成品。再開始以同樣工序進行第二爐生產。如此周而復始,生產速率既受影響,勞動強度亦大,動力浪費亦多,不符合近代工業大規模連續生產的要求。