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              NR7 6000P光刻膠廠家常用解決方案

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              發布時間:2020-08-27 02:17  






              美國Futurrex光刻膠

              北京賽米萊德貿易有限公司供應美國Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY,此款負膠的設計適用于比較寬的波長范圍和i線(366納米)曝光工具。品牌產地型號厚度曝光應用加工特性Futurrex美國NR71-1000PY0。當顯影后顯示出負的側壁角度,是lift-off工藝中比較簡易的光刻膠。和其他膠相比NR9i-3000PY有下面的優勢: 1. 比較高的光刻速度,可以定制光刻速度來曝光產量 2. 比較高的分辨率和快的顯影時間 3. 根據曝光能量可以比較容易的調整側壁角度 4. 耐溫可以達到100攝氏度 5. 用RR5去膠液可以很容易的去膠 NR9-3000PY的制作和工藝是根據職業和環境的安全而設計。主要的溶劑是,NR9-3000PY的顯影在水溶液里完成。屬固含量(%):31-35 主要溶劑: 外觀: 淺液體涂敷能:均勻的無條紋涂敷 100攝氏度熱板烘烤300秒后膜厚涂敷自旋速度 40秒自旋。

               


              光刻膠工藝

              普通的光刻膠在成像過程中,由于存在一定的衍射、反射和散射,降低了光刻膠圖形的對比度,從而降低了圖形的分辨率。光刻膠市場據統計資料顯示,2017年中國光刻膠行業產量達到7。隨著曝光加工特征尺寸的縮小,入射光的反射和散射對提高圖形分辨率的影響也越來越大。為了提高曝光系統分辨率的性能,Futurrex 的光刻膠正在研究在曝光光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術。該技術的引入,可明顯減小光刻膠表面對入射光的反射和散射,從而改善光刻膠的分辨率性能,但由此將引起工藝復雜性和光刻成本的增加。


              光刻膠國內的研發起步較晚

              光刻膠的研發,關鍵在于其成分復雜、工藝技術難以掌握。光刻膠編碼HS編碼:3707100001[類注]|[章注]|[子目注釋]中文描述:不含銀的感光乳液劑(CIQ碼:301:液體)英文描述:Non--0--silverlight-sensitiveemulsionagent申報要素:0。光刻膠主要成分有高分子樹脂、色漿、單體、感光引發劑、溶劑以及添加劑,開發所涉及的技術難題眾多,需從低聚物結構設計和篩選、合成工藝的確定和優化、活性單體的篩選和控制、色漿細度控制和穩定、產品配方設計和優化、產品生產工藝優化和穩定、終使用條件匹配和寬容度調整等方面進行調整。因此,要自主研發生產,技術難度非常之高。

              在光刻膠研發上,我國起步晚,2000年后才開始重視。近幾年,雖說有了快速發展,但整體還處于起步階段。事實上,工藝技術水平與國外企業有著很大的差距,尤其是材料及設備都仍依賴進口。


              NR9-1000py

              問題回饋:

              1.我們是LED制造商,麻煩推薦幾款可以用于離子蝕刻和Lift-off工藝的光刻膠。

              A 據我所知,Futurrex

              有幾款膠很,NR7-1500P

              NR7-3000P是專門為離子蝕刻

              設計的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的應用。

              2.請問有沒有可以替代goodpr1518,Micropure去膠液和goodpr顯影液的產品?

              A 美國光刻膠,Futurrex

              正膠PR1-2000A

              , 去膠液RR4,和顯影液RD6可以解決以上問題。

              3.你們是否有可以替代Shipley

              S1805的用于DVD的應用產品?

              A 我們建議使用Futurrex

              PR1-500A , 它有幾個優點:比較好的解析度,比較好的線寬控制,

              反射比較少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~

              4. 求助,耐高溫的光阻是那一種?

              A Futurrex, NR7 serious(負光阻)Orpr1 serious(正光阻),再經過HMCTS

              silyiation process,可以達到耐高溫200度,PSPI透明polyimide,可耐高溫250度以上。

              5.厚膜光阻在鍍金應用上,用哪一種比較理想?

              A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的濕膜更加適合,和理想。

              6.請教LIFT-OFF制程哪一種光阻適合?

              A 可以考慮使用Futurrex

              ,正型光阻PR1,負型光阻用NR1&NR7,它們都可以耐高溫180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。

              7.請問,那位專家知道,RIE

              Mask,用什么光阻比較好?

              A 正型光阻用PR1系列,負型光阻使用NR5,兩種都可以耐高溫180度。

              8.一般厚膜制程中,哪一種光阻適合?

              A NR9-8000P有很高的深寬比(超過4:1),一般厚膜以及,MEMS產品的高需求。

              9.在DEEP

              RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P嗎?

              A 建議不使用,因為使用NR5-8000更加理想和適合。

              10.我們是OLED,我們有一種制程上需要一層SPACER,那種光阻適合?

              A 有一種膠很適合,美國Futurrex

              生產的NR1-3000PY

              and和

              NR1-6000PY,都適合在OLED制程中做spacers



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