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    潔凈室的劃分是以單位體積內所含灰塵數來計算的，數目越小表示潔凈等級越高，一般每一級的劃分都有不同直徑灰塵數的要求，比如一般藥廠、汽車4s店，十萬級或萬級就夠了，但這對電子行業（尤其是微電子行業）僅僅是di要求，比如半導體行業等級要求di的測試間一般都不能高于1萬級，但對于潔凈要求嚴格的如光刻間，基本上都是百級，甚至十級的。但要注意，由于灰塵無處不在，所以jue對的0級是不可能存在的。

在潔凈室清洗潔凈工作服過程中應注意的事項如下：

1.新縫制的潔凈工作服可直接進行洗滌，而回收穿過的潔凈工作服發現油污，應仔細去除油污再進行洗滌程序。

2.洗滌前要對擦破、損壞及搭扣等附屬品進行檢查，對有缺陷的要修理、更換或報廢。

3.必須在比使用工作服的潔凈室的潔凈度高的潔凈室中進行清洗、烘干、捆包。

4.濕式、干式清洗用的水要過濾，溶劑也要蒸餾之后在使用點上用小于0.2μm孔徑的濾膜，根據需要進行一次以上的過濾。

5.為了除去水溶性污染物，用清水洗滌后，再用蒸餾過的溶劑進行后的洗滌，除去油性污染物。

6.濕式洗滌用水溫度如下：聚酯布 60-70C 蕞高70C. 尼龍布 50-55C 蕞高60C.

7.在后漂洗透水時，可以用抗靜電劑以提高抗靜電特性，但選用的抗靜電劑應與纖維結合良好，無粉塵脫落。

8.有搭扣的工作服，應在扣合狀態下洗滌。凈化車間

9.在洗滌專用的潔凈空氣循環系統中進行干燥。

潔凈室中的溫濕度控制：

    潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。

    具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。

    濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產蕞佳溫度范圍為35—45%。

如何進入無塵潔凈室：

1、任何進入無塵潔凈室的人，必須先進入無塵更衣室，穿上無塵帽、無塵口罩、無塵衣、靜電防塵手套、無塵褲、無塵靴。經過這套外形很“酷”的防塵裝備可將人們身上已有的灰塵隔離在無塵潔凈室之外，但這才是步。

2、接著就要進入風淋室。所謂風淋室是指一條“吹風的長廊”，不過在這條長廊中吹出來的強風是沒有任何靜電存在的離子風。這種離子風所具有的中和能力可以將人身上的正負電荷中和，而且依靠靜電黏附在毛發、衣服上的灰塵也會自動脫落并粘在地板上的藍色洗塵墊上。

3、走過風淋室后，就進入無塵潔凈室了。如果無塵潔凈室生產的產品要防靜電，則還要經過“靜電橋”徹底地消除身上的靜電。若進入百級潔凈室還重復2、3步驟動作。