您好,歡迎來到易龍商務網!
【廣告】
發布時間:2020-07-18 19:50  






濺射鍍膜機濺射鍍技術優點
濺射鍍膜機濺射鍍技術應用 蒸發和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機,主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。由于鍍膜室為立式容器,所以它具有臥式鍍膜機的一切優點, 又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡,更可方便地實現自動生產線,是替代傳統濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設備。本機鍍部分產品可不做底油。靶zhong毒的影響因素影響靶zhong毒的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例,反應氣體過量就會導致靶zhong毒。本機主 要特點配用改進型高真空排氣系統,抽速快、、節電、降噪和延長泵使用壽命;實現蒸發、磁控濺射、自動控制,操作簡單,工作可靠。
想要了解更多磁控濺射鍍膜機的相關信息,歡迎撥打圖片上的熱線電話!
關于磁控濺射鍍膜機知識!
以下內容由創世威納為您提供,今天我們來分享 磁控濺射鍍膜機的相關內容,希望對同行業的朋友有所幫助!
磁控濺射鍍膜儀用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。
電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與ya原子發生碰撞,使其電離產生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產生的二次電子借助于靶表面上形成的正交電磁場,被束縛在靶表面特定區域,增強電離效率,增加離子密度和能量,從而實現高速率濺射。是制備低維度,小尺寸納米材料器件的實驗手段,廣泛應用于集成電路,光子晶體,低維半導體等領域。在安全防護鍍層中的運用:飛機發動機的葉子、小車厚鋼板、散熱器等。
1、磁控濺射和電阻蒸發雙應用。本機采用可磁控濺射與電阻蒸發免拆卸轉換結構,可快速實現蒸發源的轉換。
2、桌面小型一體化結構。本機對真空腔體、鍍膜電源及控制系統進行整合設計,體積與一臺A3 打印機相仿(不包含真空機組,480x320x460mm,寬X 高X 深)

我國真空鍍膜機行業發展現狀和前景分析
創世威納——專業真空鍍膜機供應商,我們為您帶來以下信息。
真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術,是表面工程技術領域的重要組成部分。隨著全球制造業高速發展,真空鍍膜技術應用越來越廣泛。適合鍍制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業的發展來看,對真空鍍膜設備、技術、材料需求都在不斷增加,包括制造大規模集成電路的電學膜;數字式縱向與橫向均可磁化的數據紀錄儲存膜;充分展示和應用各種光學特性的光學膜;計算機顯示用的感光膜;TFT、PDP平面顯示器上的導電膜和增透膜;建筑、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜;包裝領域用防護膜、阻隔膜;裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;工、模具表面上應用的耐磨超硬膜;納米材料研究方面的各種功能性薄膜等。
磁控濺射原理
濺射過程即為入射離子通過--系列碰撞進行能量和動量交換的過程。
電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與Ar原子發生碰撞,電離出大量的Ar離子和電子,電子飛向基片,在此過程中不斷和Ar原子碰撞,產生更多的Ar離子和電子。Ar離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。在運用該機理開發磁控膜的過程中,要注意以下幾個問題:①保證整體工藝中各個環節的可靠性。
想了解更多關磁控濺射的相關資訊,請持續關注本公司。