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真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統鍍膜方式，真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：

真空蒸鍍：其原理是在真空條件下，用蒸發器加熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態薄膜的技術。

一、真空鍍膜加工的鍍層厚度均勻致密。無論工件如何復雜，均可在工件上得到均一鍍層，其鍍層精度可達±1微米。

二、各種基體材料均可處理，包括金屬、半導體及非金屬。

三、與金屬件結合強度高一般強度在350-450MPa自然狀態下不起皮、不脫落。即可保持金屬基件原有的機械性能，又增加了鍍件的耐磨性、耐腐蝕性。

四、耐腐蝕性強金屬件經表面處理后，由于表面形成了一種非晶態鍍膜層，因為無晶界，所以抗腐蝕性能優良。

現在有一種涂層技術已逐漸應用到手表上，工藝上講為PaCVD,屬于CVD的一種。這種技術先是應用到F1方程式車上，因為這種涂層更注重外觀色澤，也叫裝飾涂層。因高溫會使手表變形，所以它的氧化溫度只有攝氏300度，但它的硬度非常高，達到4000（維氏硬度），非常耐磨。

相對PVD工藝，PaCVD工藝應用深鍍電源，無需陰極靶材，同時工件在爐膛中無需旋轉，該工藝為干凈、無污染、可靠和多性能的涂層工藝。并且DLC涂層非常堅硬耐磨，可以說是長時間的不變色，而且顏色也非常好看，非常符合現代的審美觀。

東莞真空電鍍濺射工藝的膜層結合力強，在真空電鍍加工過程中，有部分電子撞擊到基材表面，表面原子，并且產生清潔的作用，而鍍材通過濺射所獲得的能量比蒸發所獲得的能量高出1到2個數量級，帶有如此高能量的鍍材原子撞擊到基材表面時，有更多的能量可以傳遞到基材上，產生更多的熱能，使被電子的原子加速運動，與部分鍍材原子更早互相溶合到一起，其他鍍材原子緊隨著陸續沉積成膜，加強了膜層與基材的結合力。