化學氣相沉積鍍膜常用解決方案

真空磁控陰極濺射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔體內，處在負電壓的兩極間的工作氣體正離子在正交電磁場的作用下飛向陰極，在很短的陰極位降區內獲得很大的能量去迅速轟擊靶材，從而使陰極(靶材)原子飛向玻璃基片--玻璃沉積膜層，濺射出的二次電子(此過程稱γ過程)在電磁場作用下按旋輪線運動參與碰撞電離，蟹衍載流子，這樣就能源源不斷地轟擊陰極，提供足夠數量的正離子，形成的等離子區使持續輝光放電，其可以一次完成多層鍍膜，有著的膜層均勻性，的邊緣復蓋和良好的附著力。鍍膜有著優于和區別于其它真空磁控濺射鍍膜機的地方是：它的平面磁控靶上的磁場是由環形磁鐵產生的，可將半園環形磁鐵看成是無限T微扇柱狀磁鐵的組合 。所以，其相應點磁標勢較穩定，才能生產出均勻牢固的鍍膜層。涂敷防止彈性體元件中副產品溶出并保護產品表面不受和無機試劑、酸和溶液的影響。

真空鍍中對底涂層的要求：

①對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結合力，熱膨脹系數相差小，不起反應，流平性能好。

②具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應力小、耐熱性能好。

③成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。

④與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。

⑤施涂性能良好。流平性能良好，有適當的黏度、固化時間短。

在光學鍍膜材料的應用上，鍍膜靶材是核心技術，通過不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學鍍膜材料，普遍應用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、、硒等金屬。在反射鏡的光學材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學原件中鍺、、硒化鋅等應用廣泛。在光學鍍膜材料的應用上，鍍膜靶材是核心技術，通過不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學鍍膜材料，普遍應用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、、硒等金屬。

隨著鍍膜技術的不斷推廣，光學鍍膜技術的應用領域也在不斷拓寬，這些具有優異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來更多的精彩。

? 微電子、半導體：使用高純的Parylene作鈍化層和介質層，能提供安全、穩定的防護。

?傳感器和換能器：自動化控制和惡劣環境下使用的傳感器、換能器， Parylene涂層防護可以提高環境適應性和可靠性，涂層無，且具有防潮功能。各種傳感器傳感部件及彎曲管。適用于各種惡劣環境。 

?Parylene適用于微機電(MEMS)、半導體領域之優點

*能進行微米級微細制作和加工；

*與其它微細結構材料有很好的相容性；

* 在微細結構中仍具有優良的電性能和物理機械性能；

*對微電子機械系統的使用環境有很好的相容性和防護性