磁控濺射臺優惠報價 北京創世威納

濺射鍍膜機濺射鍍技術優點

濺射鍍膜機濺射鍍技術應用  蒸發和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機，主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。由于鍍膜室為立式容器，所以它具有臥式鍍膜機的一切優點，   又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡，更可方便地實現自動生產線，是替代傳統濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設備。本機鍍部分產品可不做底油。這種被稱為孿生靶濺射的中頻交流磁控濺射技術，不但消除了陽極的。本機主 要特點配用改進型高真空排氣系統，抽速快、、節電、降噪和延長泵使用壽命;實現蒸發、磁控濺射、自動控制，操作簡單，工作可靠。

想要了解更多磁控濺射鍍膜機的相關信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

磁控濺射中靶zhong毒是怎么回事,一般的影響因素是什么？

靶zhong毒現象

(1)正離子堆積：靶zhong毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶zhong毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現象。不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。

想了解更多關于 磁控濺射鍍膜機的相關資訊，請持續關注本公司。

磁控濺射法的優勢

目前常用的制備CoPt 磁性薄膜的方法是磁控濺射法。磁控濺射法是在高真空充入適量的ya氣，在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，使ya氣發生電離。ya離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質的靶和控制不同的濺射時間，便可以獲得不同材質和不同厚度的薄膜。從應用角度出發,通常要求ITO薄膜的成份是In2O3和SnO2,薄膜中銦錫低價化合物愈少愈好。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結合力強、鍍膜層致密、均勻等優點。

想要了解更多磁控濺射產品的相關內容，請及時關注創世威納公司網站。