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化學鍍鎳可以選用多種還原劑，工業上應用普遍的是以次磷酸鈉為還原劑的化學鍍鎳工藝，其反應機理，普遍被接受的是“原子氫理論”和“氫化物理論”。經過化學鍍鎳這一技術的得金屬可以提高金屬的腐蝕性和耐磨性，這就增加了金屬物體的光澤和美觀。化學鍍鎳適合于管狀或是外向復雜的小零件的光亮鍍鎳，不必再經拋光。

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化學鍍鎳的主要問題

1、鍍層表面花斑

鍍層表面出現花斑與化學鍍液去離子水無關，而是鍍件表面粘附于某些有機“雜質”，清洗不干凈，從而改變了零件表面Ni—P合金鍍層的形成該生長行為，形成了這種不均勻的“花斑”。

2、鍍層麻點和

鍍件表面狀態不佳。如是機械雜質、氧化皮等未完全除凈，在進行化學鍍液PH值和鍍液不穩定等，都有可能使鍍層產生麻點和。應盡量降低零件表面粗糙，基本表面愈光亮，則化學鎳層愈光亮，鍍層的就越少。

在特定的鍍鎳液中加入適量的添加劑﹐能獲得應力較大的容易龜裂成微裂紋的鎳層﹐這種鎳層﹐叫做高應力鎳。