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發(fā)布時間:2020-07-20 05:16  






一六 熒光測厚儀 十年以上研發(fā)團隊 集研發(fā)生產銷售一體
元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U) 厚度分析范圍:各種元素及有機物
一次可同時分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um
X熒光測厚儀可調整測量位置,非常敏捷快速。或是測量位置已完成登陸時,可連續(xù)自動測定,利用座標補正、連結頻道,來應付各種測量軌跡。亦可用自動測定來作標準片校正。
測定部顯示盡像的表示:X線照射部可由WINDOWS畫面上取得照射部的表示。從準儀照射測定物的位置,可由倍率率更機能來實現盡面上測出物放大。。。
一六 熒光測厚儀 十年以上研發(fā)團隊 集研發(fā)生產銷售一體
元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U) 厚度分析范圍:各種元素及有機物
一次可同時分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um
(一)、內部結構
X熒光光譜測厚儀機型很多,但是其內部結構如果先天不足,后期的外部結構無論自動化多高,也無法完全滿足客戶需求。內部結構重要的3點:
1、X熒光發(fā)射和CCD觀測是否同步和垂直?
2、測試樣品是否可以變化測頭到樣品的距離?
3、X光照射面積從出口到樣品的擴散情況。
(二)、各種內部結構的優(yōu)缺點
1、X熒光發(fā)射和CCD觀測樣品只有同步且垂直才不會因為樣品的高低深淺變化而改變測試到樣品的位置,才能保證定位精準,同時減少與探測器或計數器的夾角,夾角小測試時
受樣品曲面或者傾斜影響小。
2、測試樣品距離可變化才能測試高低不平帶凹槽的樣品工件,同時也兼顧好平面樣品的測試。但是它需要配備變焦鏡頭和變焦
補償射線的算法。
3、X光照射面積從出口到樣品的擴散過于嚴重會導致無法測試樣品工件上較小的平面位置,如果減小出口(準直器直徑),又會嚴重耗損X光的強度。
因此一臺此類儀器的小準直器不是關鍵,但是測試面積卻是個重要的指標。

江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產、銷售的高新技術企業(yè)。采用X射線熒光光譜法無損測量金屬鍍層、覆蓋層厚度,測量方法滿足GB/T16921-2005標準(等同ISO3497:2000、ASTMB568和DIN50987)。我們專業(yè)的研發(fā)團隊具備十年以上的從業(yè)經驗,經與海內外多名專家通力合作,研究開發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀。穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)、先進的解譜方法和EFP算法結合精準定位及變焦結構設計,解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題
目前,金屬鍍層常用的分析方法有濕化學電解分析、輝光放電---發(fā)射光譜分析(GD-OES)和X射線熒光光譜儀等。濕化學電解分析需選用適當溶劑溶解選定的鍍層,逐層溶解并進行測定,方法準確但費時費力,尤其是相關特定溶劑的選擇也非常復雜,價格又貴,屬于典型破壞性樣品檢測,測量手段手段繁瑣,速度慢,電解液耗損大,目前一般很少應用。磁性原理測厚儀可應用來測量鋼鐵表面的油漆層,瓷、搪瓷防護層,塑料、橡膠覆層,包括鎳鉻在內的各種有色金屬電鍍層,以及化工石油待業(yè)的各種防腐涂層。GD-OES方法用惰性原子逐層轟擊及剝離試樣表層,再用發(fā)射光譜測定,這種方法可實現剖面或逐層分析,但測量重復性并不理想。
