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              廣西異形工件鍍膜設備工作原理誠信企業,北京創世威納

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              發布時間:2020-07-25 18:19  







              真空電鍍機作業指導手冊真空電鍍機作業指導手冊

              1.開機前檢查水路是否暢通.

              2.檢查氣路是否暢通.

              3.開啟電源,打開”維持泵”開關,并觀查機器各部位是否運行順暢.

              4.進入加熱過程.

              溫州真空電鍍機價格5.完成加熱后進入生產狀態.

              6.生產時在關倉門前,檢查物料擺放是否符合要求,卻保不會碰撞.

              7.生產過程中隨時觀查各部們運行情況及顯示屏和各種參數指標.

              8.工藝完成后,要輕開倉門,手拉倉門直至停穩.

              9.停機時將真空門吸合,抽至一定的真空,關閉除”停機”外所有開關.

              10.待真空電鍍機冷卻至所需溫度時,方可關閉電源,空壓機,冷確塔,維持泵.




              真空電鍍機使用范圍

              真空電鍍機設備應用廣泛,真空蒸發鍍膜主要有汽車反光網、工藝品、首飾、鞋帽、鐘表、燈具、裝飾、手機、DVD、MP3、PDA外殼、按鍵、化妝品外殼、玩具、圣誕禮品等行業;PVC、尼龍、金屬、玻璃、陶瓷、TPU等。

              真空電鍍機維修注意事項

              真空多弧離子鍍膜設備跟真空磁控濺射鍍膜設備可對各種金屬進行表面鍍膜.例如:鐘表行業(表帶、表殼、表盤等)、五金行業(衛生潔具、門把手、拉手、門鎖等)、建筑行業(不銹鋼板、樓梯扶手、立柱等)、精密模具業(沖棒標準件模具、成型模具等)、工具行業(鉆頭、硬質合金、銑刀、拉刀、刀頭)、汽車工業(活塞、活塞環、合金輪轂等)以及鋼筆、眼鏡等等。




              真空電鍍機操作注意事項

              左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。

              低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至110mA時,左旋鈕'1'旋轉至指向2區段測量位置。

              當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時,低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。

              真空鍍膜機開通冷卻水,啟動擴散泵,加熱40min。

              低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序:左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至6.7Pa時,開高壓閥(閥桿順時針旋轉)。

              等低真空表“2”內指針右移動至0.1Pa時,開規管燈絲開關。

              發射、零點測量鈕“9”旋轉至指向發射位置。

              左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。

              旋轉發射調節鈕“4”,使高壓真空表“5”內指針指向5。

              發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向零點位置。

              旋轉零點調節鈕“10”,讓高壓真空表“5”內指針指向0位置。

              發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向測量位置。

              旋轉標準調節鈕“3”,讓高壓真空表“5”內指針指向10。

              旋轉“倍加器”開關鈕“8”至指向10-12,當高壓真空表“5”內指針逆時針左移超過1時,再把“倍加器”開關旋鈕“8”旋轉至指向10-3。




              主要的鍍膜濺射方式有哪些?

              磁控濺射鍍膜設備在目前鍍膜行業中是一種不可缺少的鍍膜器材,目前大部分鍍膜企業都會有使用到。我們平日生產的時候都是由機器生產,那么大家知道目前的磁控鍍膜設備主要的濺射方式有哪幾種么?下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。

              磁控濺射鍍膜設備原理解析

              主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種:(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積.

              現在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩定等缺點.

              直流濺射發展后期,人們在其表面加上一定磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法.

              CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備

              而后又有中頻濺射,提高了陰極發電速率,不易造成放電、靶材等現象.

              而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

              如果尋找本質區別是:直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機.濺射過程所用設備的區別就是電源的區別.

              以上就是主要的磁控濺射鍍膜設備的濺射方式,希望本文能夠讓用戶對設備更加了解。




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