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              發布時間:2020-08-25 06:42  






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              鍍膜技術也叫薄膜技術,是在真空條件下采用物理或化學方法,使物體表面獲得所需的膜體。鍍膜技術是初起源于20世紀30年代,直到70年代后期才得到較大發展的一種技術。物理l氣相沉積(真空鍍膜)基本方法:從被沉積物質的氣化方式看,真空蒸鍍為電阻加熱、電子束加熱、感應加熱、激光加熱等。目前已被廣泛應用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領域.


              真空鍍膜的形式:蒸發鍍膜

              工藝原理:

              1)在真空室中,膜料被加熱變成蒸發原子,蒸發原子在真空條件下不與殘余氣

              體分子碰撞而到達工件表面;

              2)蒸發原子與基材碰撞后一部分被反射,另一部分被吸附;

              3)吸附原子在基材表面發生表面擴散。


              真空鍍膜的形式:蒸發鍍膜


              4)沉積原子之間產生兩維碰撞,形成簇團,有的在表面停留一段時間后再蒸發;

              5)原子簇團與擴散原子相碰撞,或吸附單原子,或放出單原子,這種過程反復進行;

              6)當原子數超過某一臨界值時就變為穩定核,再不斷吸附其他擴散原子而逐步長大,后與鄰近穩定核合并進而變成連續膜。


              PLD缺點:1、在鍍膜過程中,薄膜會被沉積在薄膜上的等離子本管中產生的微粒、氣態原子和分子降低質量,采取一定的措施后也

              不能完全消除.2、在控制摻雜、生長平滑的多層膜等方面PLD生長部比較困難,因此進一步提高薄膜的質量會比較困難.



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