銘牌曝光顯影廠服務放心可靠,利成感光

導致的原因較多，通常考慮UV光是否正常，即曝光機是否工作正常。

預烘烤時間過長也會導致顯影不凈。

蝕刻液有問題或濃度較低等等都會導致時刻不凈。

總之就是從兩方面考慮：油墨有問題，顯影液正常；油墨沒問題顯影液異常；或者兩者都異常。

板子過顯影線的線速（即顯影時間）通常會影響，線速過快就會顯影不凈。

用肉眼一般也看得出來，也可以用低倍目鏡看。


從光能量的定義公式可知，總曝光量E是光強度I和曝光時間T的乘積。若光強度I不變，則曝光時間T就是直接影響曝光總量的重要因素。曝光不足時，由于聚合不徹底，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，導致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結合不良；顯影不良：貼好的干膜后的覆銅箔層壓板經曝光之后，還須經過顯影機顯影，將未曝光的干膜保持原成份，在顯影機內與顯影液發生下列反應。


若曝光過度，會造成顯影困難，也會在電鍍過程中產生起翹剝離，形成滲鍍。所以，解決的工藝措施就是嚴格控制曝光時間，每種類型的干膜在起用時應按工藝要求進行測量。如采用瑞士頓21級光楔表，級差0.15，以控制6-9級為宜。曝光時間過長。當曝光過度時，紫外光透過照相底片上透明部分并產生折射、衍射現象，照射到照相底片不透明部分下的干膜處，使本來不應該發生光聚合反應的該部分干膜，被部分曝光后發生聚合反應，顯影時就會產生余膠和線條過細的現象。因此，適當的控制曝光時間是控制顯影效果的重要條件。

在印刷、影印、復印、曬圖等行業中，讓影像顯現的一個過程。通常指在復印機、打印機中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉變成可見的色粉圖像的過程。

1、蝕刻：利用蝕刻液與銅層反應，蝕去線路板上不需要的銅，得到所要求的線路。

2、曝光：經光源作用將原始底片上的圖像轉移到感光底板（即PCB）上。

3、顯影：通過堿液作用，將未發生光聚合反應之感光材料部分沖掉。