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發(fā)布時間：2020-07-19 12:48
高純水設備運行維護
共創(chuàng)富來專業(yè)生產(chǎn)、銷售高純水設備，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。
EDI高純水設備的良好的長期運行不僅依賴于系統(tǒng)的初期設計，而且取決于正確的運行和維護。這包含系統(tǒng)的初期啟動和運行過程中的啟動/停機。為了保持系統(tǒng)的長期良好運行，需要對系統(tǒng)運行數(shù)據(jù)進行定期記錄，以便日后日常運行維護。而且日常運行維護數(shù)據(jù)對于在設備故障判斷和決定采取何種措施方面有重要意義。
測試EDI高純水設備進水水質(zhì)的下列指標：
進水水源：二級反滲透產(chǎn)水
進水當量電導率(包括CO2與Si)：<40μS/cm
硅：<1.0ppm以SiO2計
鐵，錳，硫：<0.01ppm
氯/氯化物：<0.02ppm以Cl2計
硬度：<1.0ppm以CaCO3計
溶解的有機物：<0.5ppm TOC中的C計
PH值：4-11
較大進水壓力bar：(1-45℃)
標準流量下壓差：1.4-2.1bar
標準回收率：90-95%
較高進水溫度：45℃
較低進水溫度：5℃
直流電壓(V)：0-600
直流電流(A)：0-6
運行啟動：
一旦EDI高純水設備系統(tǒng)已經(jīng)啟動，每次的停機和重啟動都意味著壓力和流量的變化，以及對EDI模塊的機械性沖擊。因此，系統(tǒng)的停機和重啟動的次數(shù)應當盡可能的少，以保證EDI系統(tǒng)的平穩(wěn)運行。在系統(tǒng)啟動之前和過程中的檢查應當作為一種日常工作進行，并且做好工作記錄。
高純水設備應用領域
化工材料的生產(chǎn)和加工過程所用的溶劑及清洗過程用純水
超純材料和超純化學試劑純水
實驗室和中試車間用純水
電子半導體、集成電路板上用到的化工材
石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純等所使用的純水
高純墨水、傳真打印機中的噴墨、納米墨水純水
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高純水設備簡介
高純水設備是應用在反滲透系統(tǒng)之后，取代傳統(tǒng)的混合離子交換技術(shù)生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點:
①水質(zhì)穩(wěn)定
②容易實現(xiàn)全自動控制
③不會因再生而停機
④不需化學再生
⑤運行費用低
⑥廠房面積小
⑦無污水排放。
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