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發布時間:2020-07-17 02:04  





氧化鋯(YSZ)單晶基片是zui早應用于高溫超導薄膜的材料之一。一般使用的氧化鋯需要摻入釔作為穩定劑,常見濃度有13 mol%,YSZ具有機械和化學穩定性好、成本低的特點。由于氧化鋯(YSZ)材料具有高硬度,高強度,高韌性,極高的耐磨性及耐化學腐蝕性等等優良的物化性能,氧化鋯已經在陶瓷、耐火材料、機械、電子、光學、航空航天、生物、化學等等各種領域獲得廣泛的應用。
氧化鋯(YSZ)晶體
產品規格:常規晶向:<100>, <110>, <111>;晶向公差:±0.5°;常規尺寸:dia2'x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm;拋光情況:單拋或雙拋,Ra<5A。注:可按客戶需求定制相應的方向和尺寸。
晶體結構:立方;晶格常數:a = 5.125 ?;密度:5.8 g / cm3;純度: 99.99%;熔點: 2800°c;熱膨脹系數:10.3 x10-6/ °c;介電常數:27;晶體生長方法:弧熔法。
氧化鋯自然界的氧化鋯礦物原料,主要有斜鋯石和鋯英石, 純凈的氧化鋯是白色固體,含有雜質時會顯現灰色或淡黃色,添加顯色劑還可顯示各種其它顏色。由于氧化鋯材料具有高硬度,高強度,高韌性,極高的耐磨性及耐化學腐蝕性等等優良的物化性能,氧化鋯已經在陶瓷、耐火材料、機械、電子、光學、航空航天、生物、化學等等各種領域獲得廣泛的應用。
氧化鋯存在三種穩定度同素異晶體:單斜相,立方相和四方相。低溫時為單斜晶系,在1100℃以上形成四方晶型,在1900℃以上形成立方晶型。氧化鋯(YSZ)晶體是目前發現的抗輻照能力非常強的絕緣體材料,在輕水堆中可用作“燃燒”多余钚的惰性基材以及儲存核廢物的基體而倍受關注。從光學應用的角度來講,單晶YSZ因其折射率高、色散大、物化性能穩定,常被用作高溫光學元件,以及在光學設備中作為激光基質晶體。