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發(fā)布時間：2021-09-29 18:18
正性光刻膠
正性光刻膠
正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛，提供光刻膠的粘附性、化學抗蝕性，當沒有溶解存在時，線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中，感光劑是光敏化合物，常見的是重氮萘醌（DNQ）。在曝光前，DNQ是一種強烈的溶解，降低樹脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻膠中化學分解，成為溶解度增強劑，大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種曝光反應會在DNQ中產生羧酸，它在顯影液中溶解度很高。正性光刻膠具有很好的對比度，所以生成的圖形具有良好的分辨率。顯影之后，NR9-3000PY展現(xiàn)出一種倒梯形側壁，這可以方便地作單純的LIFT-OFF處理。
NR77-20000PMSDS
光刻膠運輸標識及注意事項
標簽上標明的意思
R標識
R10 YI燃。
S標識
S16 遠離火源-禁止吸煙。
S 24 避免接觸皮膚。
S 33對靜電放電采取預防措施。
S 9 將容器保持在通風良好的地方。
水生毒性
通過自然環(huán)境中的化學、光化學和微生物降解來分解。一般不通過水解降解。300 ppm對水生生物是安全的。鹵化反應可能發(fā)生在水環(huán)境中。
NR9-250P
20．有沒有光刻膠PC3-6000的資料嗎？
A PC3-6000并不是光刻膠，它是用在chip
on glass 上的膠粘劑。
21．是否有Wax替代品？
A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定，比較容易去除掉。
22．貴公司是否有粘接硅襯底和襯底的材料？
A 有，IC1-200就是
23．請問是否有不用HMDS步驟的正性光刻膠？
A 美國Futurrex 整個系列的光刻膠都不需要HMDS步驟，都可以簡化。
24．一般電話咨詢光刻膠，我們應該向客戶咨詢哪些資料？
A 1 需要知道要涂在什么材質上，2
還有要知道需要做的膜厚，3
還要知道光刻膠的分辨率
4還有需要正膠還是負膠，5
需要國產還是進口的
27．想找一款膜厚在120um，的光刻膠，有什么光刻膠可以做到啊！
A 以前有使用過美國有款光刻膠可以達到Futurrex
NR21-20000P ，。
28．有沒有了解一款美國Futurrex
NR9-250P的光刻膠，請教下？
A 這是一款負性光刻膠，濕法蝕刻使用的，附著力很好，耐100度的溫度，國內也有可以代理的公司，F(xiàn)uturre
光刻膠是世界第4大的電子化學品制造商，在光刻膠的領域有著不錯的聲譽，在太陽能光伏，和LED半導體行業(yè)都有不錯的市場占有率。
29．想找款膜厚的產品，進行蝕刻，有什么好推薦？
A 厚膜應用（thick
film applicati），主要是指高縱橫比（Aspect
ratios）,高分辨率，高反差，有幾款產品向你推薦一下《NR4-8000P，NR2-20000P，NR5-8000，這些產品都需要用到邊膠清洗液》
的光刻
?Futurrex
提供先進化學技術的多樣化解決方案
成立于1985年,總部設在美國新澤西州，富蘭克林市,高速成長并超過20年連續(xù)盈利的跨國公司
公司業(yè)務覆蓋范圍包括北美，亞太以及歐洲
基于多樣化的技術
應用領域：微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機電系統(tǒng)、生物芯片、微流體、平面印刷
解決方案：的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程
客戶：從財富100強到以風險投資為背景的設備研發(fā)及制造公司
使命
目標
提供特殊化學品和全新工藝來增加客戶的產能
策略
提供獨特的產品來優(yōu)化生產制程，以提高設備能效
領的技術提升生產過程中的整體性價比
工藝步驟的減少降低了成本和產生瑕疵的可能
增加客戶的產能和生產的效率
工藝減化
非同尋常的顯微構造、金屬及介電層上的圖形轉換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定
在生產過程中，不含有害溶劑
支持所有客戶的需要，與客戶共創(chuàng)成功
