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多弧離子鍍膜機的運用

多弧離子鍍膜機用于不一樣層次五金商品，通常的修建五金件、鎖具，用多弧離子鍍膜設備可擔任，中高層次商品如表帶、表殼、眼鏡框、手機殼、高爾夫球具、衛浴潔具、飾品等，通常選用電弧/中頻（ 直流）磁控濺射復合型鍍膜設備，依據裝載量選用巨細機型。該設備可鍍黃金色、玫瑰金、咖啡色、棕色、古銅色、藍色等裝修膜。

蒸發系統的結構與工作原理介紹

蒸發系統由蒸發源、送絲機構、水冷擋板等組成。HD1500-12型高真空卷繞鍍膜機所用的蒸發源為氮化硼蒸發舟，它具有耐腐蝕、耐熱性能優良、蒸鍍層純度高等特點。采用電阻加熱方式，由送絲機構將鋁線連續不斷地送到對應的蒸發舟表面，使它們迅速加熱得以蒸發。

蒸發舟的兩端各裝在正、負電極上，采用端部嵌入夾緊方式，縫隙墊以石墨紙。電極均采用內部水冷結構，避免發熱燒毀。每組蒸發源的功率可通過操作面板上的電位器進行單獨調節，也可以整體調節。

送絲機構包括交流電機、減速器、摩擦壓輪組等，交流電機聯接減速器通過鏈輪驅動串接在傳動軸上的每組壓輪，實現鋁絲的同步輸送，送絲的速度由變頻器控制，可通過操作面板上的加速或減速按鈕進行調節，速度值在觸摸屏中顯示。

水冷擋板由固定的蒸發槽和活動擋板組成，兩者都要通水冷卻。蒸發槽安裝在底板上，主要用于阻止熱量向四周及下面擴散，活動擋板在蒸發槽的上面，通過真空室外部的氣動裝置可將其打開或關閉，它是用于在蒸發舟進行預加熱和卷繞系統未啟動或運轉速度較慢時隔絕熱源對基材的輻射，避免基材燒損。

真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統介紹

真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統按位置分為控制柜、變壓器組和操作臺三個主要部分。設備所有功能的控制元器件包括可編程PLC、變頻器、調壓模塊等都裝在控制柜里，控制柜的正面安裝有電阻、電離復合真空計，安裝有增壓泵、擴散泵的加熱電流表以及三相電源的指示燈、報警指示燈、緊急停止開關。

變壓器組安裝在真空罐的下面，其輸出端正極直接與對應的蒸發電極棒連接，輸出端負極并接后再與蒸發負極連接。

操作臺安放在真空罐的前方、觀察窗的下方，觸摸屏、各部件的操作控制按鈕、旋鈕或開關都設在操作臺的面板上。

觸摸屏位于操作面板的左上部，卷繞系統參數包括收放卷的張力、卷徑、機器的運行速度等的設置和數據顯示、真空系統的運行指示都在觸摸屏中進行。

操作面板的右上部是蒸發源加熱功率調節鈕和電流表，可以調節和顯示每組蒸發源的功率。

操作面板的下部是功能控制按鈕或開關，包括控制電源總開關、卷繞車進退、擺臂進退、彎輥正反轉、送絲開關及速度快慢、蓋板開關、系統運行的控制模式選擇等。

鍍膜行業發展的趨勢

當今鍍膜行業制作方式主要有兩種，一種是化學氣象沉積，一種是化學鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應所需其他氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在化學薄膜的過程中，容易產生溶液污染，如果鍍層表面雜質多，鍍出來的效果不好。

化學鍍膜需要的反應溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時硬質合金，雖然能經受高溫，但在化學鍍膜制作的環境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質合金上鍍TiN，晶體擴散出來的碳會與溶液發生反應形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機很好的解決了化學鍍膜產生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電技術，利用其他放電是靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及反應產物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學鍍膜中的溶液污染問題，不會產生有毒或污染物質，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質合金刀具可使其壽命提高2~10倍。