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真空電鍍之分析漏鍍?cè)颍貉趸瘜釉谶M(jìn)入鋅鍋之前沒(méi)有被有效還原，這種漏鋅缺陷會(huì)分布在鍍鋅板的下表面或上表面。如果使用的臥式爐，下表面產(chǎn)生的漏鍍?nèi)蓖瑯映尸F(xiàn)出無(wú)規(guī)律性分布，陷可能比上表面產(chǎn)生的更嚴(yán)重。而缺陷形貌一般為片狀的針的孔黑點(diǎn)。退火段主要起到消除加工硬化、保證基板回復(fù)再結(jié)晶和入鋅鍋溫度，成因：工藝流程中。同時(shí)還原帶鋼表面的作用。如果氧化層在入鋅鍋前不能被有效還原，還原爐內(nèi)通入氮、氫保護(hù)氣從而使?fàn)t內(nèi)氣氛為還原性氣氛。則鋅液對(duì)基板的浸極易出現(xiàn)漏鋅的缺陷。潤(rùn)性降低。

真空電鍍層具有很好的防腐蝕性能：電鍍是用于實(shí)現(xiàn)腐蝕控制的流行的方法之一。電鍍需要將金屬電沉積到鋼或鐵產(chǎn)品的表面上。該金屬涂層用作犧牲阻擋層，其可以減緩甚至防止在被稱(chēng)為襯底的下面的材料上形成腐蝕。化學(xué)鍍：化學(xué)鍍是不需要使用電流的電鍍衍生物。相反，沉積通過(guò)自催化化學(xué)反應(yīng)發(fā)生。這使得能夠?qū)崿F(xiàn)更均勻的涂層應(yīng)用并且提供增強(qiáng)的管理涂層厚度的能力。當(dāng)需要優(yōu)良的防腐蝕保護(hù)時(shí)，化學(xué)鍍鎳是常見(jiàn)的化學(xué)鍍技術(shù)。

為了滿足更安全、更節(jié)能、降低噪聲、減少污染物排放的要求，在表面處理工藝上，真空電鍍已經(jīng)成為環(huán)保新趨勢(shì)。與一般的電鍍不同，真空電鍍更加環(huán)保，同時(shí)，真空電鍍可以生產(chǎn)出普通電鍍無(wú)法達(dá)到的光澤度很好的黑色效果。

真空電鍍可分為

一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍等.

應(yīng)用舉例

一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍等。

PC料耐溫130℃，只有“真空電鍍 UV油光固”才可達(dá)到耐130℃高溫要求。而一般的水電鍍是無(wú)法對(duì)PC料進(jìn)行電鍍的。