刻蝕機目前國際上主要的供應商為應用材料、LamResearch等。中國方面技術有慢慢追上的趨勢，即將登錄科創板的中微半導體，其自主研發的5nm等離子體刻蝕機經臺積電(2330-TW)驗證，將用于全球首條5nm制程生產線。而北方華創則是在14nm技術有所突破。市場預估今明兩年中國刻蝕機需求分別達15億美元與20億美元。 拋光：可以使晶圓表面達到性的平坦化，以利后續薄膜沉積工序。美國應用材料、Rtec等均為國際上主要供應商，中國則有中電科裝備、盛美半導體等。但陸廠的產品才剛打入8寸晶圓廠中，12寸的相關設備還在研發，明顯與國際大廠有實力上的差距。市場預計今明兩年中國拋光機需求將達3.77億美元與5.11億美元。
在古時從事腐蝕加工的技師，不像我們今天這樣有很多的方法將圖文轉移到需要腐蝕的金屬表面。早的方法可能是采用一些石蠟、松香、瀝青等，也可能采用、桐油等天然有機材料。據記載到了16世紀時專門從事腐蝕加工的工匠們，要耐心地耗時數周甚至數月的時間，將這些材料按某種比例搗碎，再用液體瀝青或桐油調合，也可能是直接加溫熔化而制成保護涂料。然后用刷子仔細地把保護涂料涂抹在需要腐蝕的整個零件表面，經午燥或冷卻硬化后;再用針或之類的硬物在保護層上把圖案制作出來，接下來就是用原始的方法進行腐蝕加工。我們可以想象，他們是怎樣地在腐蝕部位周圍用石蠟等天然常溫固態樹脂筑起屏障，然后將酸液慢慢地加到需要腐蝕的部位上。我們可以估計到這些專門從事腐蝕的工匠們會遇到的各種困難，比如:防蝕層的粘著力不夠，在還沒有達到腐蝕深度要求時，防蝕層就可能全部或部分脫落，這時就需要用手工來拋光以去掉所有的腐蝕斑痕;用石蠟等天然樹脂所筑起的防蝕墻并不能很好地防止酸的外溢，使零件的外緣或其他部位遭到腐蝕，而這些零件在進行腐蝕之前就已經加工完成，同時已具有昂貴的價值，并由此而承擔極大的風險。隨著其他輔助技術和有機材料的發展，可以用非金屬材料制作成大的容器，同時也逐漸掌握了使用防蝕涂料對零件其他部位的保護，這時就可以直接將零件浸人一足可。
藥性減低的原因及還原方式
隨著化學反應的進行，蝕刻液藥性降低，是因為三氯化鐵氧化成了氯化亞鐵，此時需要將氯化亞鐵還原成三氯化鐵增加藥液酸性。需加入水溶液(還原劑)﹑鹽酸()
2.還原反應：2FeCl2 NaClO 2HCL﹦2FeCl3 NaCl H2O
氯化亞鐵 鹽酸=三氯化鐵 氯化鈉 水(由于亞鐵離子在水中極易水解而產生氫氧化亞鐵：FeCl2 H2O=,Fe(OH)2 HCL所以為了防止氯化亞鐵水解變質,常在氯化亞鐵溶液中添加一些鹽酸.)
3.由于鹽酸容易揮發，隨著化學反應的進行，還會發生以下反應：
6FeCl2 NaClo 3H2O=4FeCl3 2Fe(OH)3 ↓ NaCl
氯化亞鐵 水=三氯化鐵 氫氧化鐵(沉淀物) 氯化鈉
(其中氫氧化鐵為沉淀物，所以隨著化學反應時間的加長，藥箱內會出現粘稠狀物質。除去該粘稠狀沉淀物，需采用物理過濾方式，如：過濾網過濾或凈水裝置)
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發布時間：2021-04-15 07:47
