高純供氣系統廠家多重優惠,艾明坷公司

大宗特氣供氣系統介紹

大宗特氣供氣系統主要針對大規模量產的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產線（氣體種類包括NH3），發光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產線（氣體種類包括HCL）等行業。特種氣體氣瓶存放區應比較干燥，并有良好通風，嚴禁明火和其它熱源，嚴禁曝曬可燃氣瓶或氧氣瓶附近嚴禁吸煙，氣瓶不應接觸到火花、火焰、熱氣及電路。它們的投資規模巨大，采用1先進的工藝制程設備，用氣需求量大，對穩定和不間斷供應、純度控制和安全生產提出嚴格的要求。

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氦質譜檢漏儀

真空檢漏的方法很多，氦質譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。

漏孔是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的空洞或間隙。大氣通過其進入真空系統或容器中；

漏率（漏氣速率）：是指單位時間內通過漏孔或間隙流入到真空系統或容器的氣體量；

1小可檢漏率：是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測出來的1小漏率；

檢漏靈敏度：也叫有效靈敏度，指檢漏儀器在1佳工作狀態下能檢出的1小漏率；

反應時間：也稱響應時間，是指從檢漏方法開始實施（如噴射示漏氣體）到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔1大泄漏率的63%時所需要的時間；

消除時間：是指從檢漏方法停止（如停止噴吹示漏氣體）到指示方法或儀器指示值下降到漏孔泄漏率的37%時所需的時間；

漏孔堵塞現象：指由于真空檢漏作業操作不當導致塵埃或液體堵塞漏孔，檢漏時似乎不漏氣，但一經排氣就會出現漏氣的一種現象。

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隨著科技的迅猛發展，氦質譜檢漏儀及其應用技術也在不斷發展和究善。各國的設備廠商相繼推出了多種類烈的氦質譜檢漏儀，廣泛應用丁航空航天，電力電子，汽車等各個行業，綜觀1新氦質譜檢漏儀的性能特點發現，氦質譜檢漏儀正向著高靈敏度、自動化、寬程、等先進方向發展，這些特點很好地滿足了當前檢漏應用的需求，也極大地1推動了氮質譜檢漏技術的不斷發展。試驗室供氣現狀目前我們可以用采用高壓氣瓶、液體杜瓦瓶、集中供氣系統完成上述工作。

小流量氣體凈化系統

高純供氣系統主要應用于鋼瓶氣、管道氣及氣體發生器等的高純連續供氣，應用于超微量水、氧分析儀、氣相色譜儀、常壓離子質譜儀等各類氣體分析儀器純化載氣或零點氣，也可用于超高純度氣體管道安裝施工中的吹掃氣體，更可以為半導體工藝設備提供超高純的工藝氣體。但是考慮安全和效率因素，不考慮經濟性因素，集中供氣系統是比較優1秀的方式。

氣體凈化系統根據需求采用常溫或者高溫吸附劑，電化學拋光316L不銹鋼管件，出氣口配置微米過濾器，其氣體純化指標達到各項雜質含量小于1ppb的世界先進水平。

氣體配比儀采用質量流量計，電化學拋光316L不銹鋼管件，雙卡套或者VCR氣體接頭。