edi純水設(shè)備生產(chǎn)廠高性價比的選擇

純水處理設(shè)備:純水與超純水區(qū)別

純水處理設(shè)備:純水和超純水區(qū)別存在于很多方面，這里只列舉了其中的一些方面，現(xiàn)歸納如下：

^電導率不同，純水電導率在 2-10us/cm 之間，超純水的電導率為 0.056us/cm

^制造的難易程度不同，目前市場上使用的純水基本上都是經(jīng)過反滲透、蒸餾等方法制得，而超純水是純水的基礎(chǔ)上還要經(jīng)過

光氧化技術(shù)、精處置和拋光處理等一系列復雜的純化技術(shù)制得的

^重金屬、細菌、微粒數(shù)等指標也大不相同，純水雜質(zhì)含量是 ppm 級，而超純水為 ppb 級，簡單地說超純水中已經(jīng)沒有什么雜質(zhì)，接近于理論上的水。

純水處理設(shè)備:純水指的是不含雜質(zhì)的H2O

純水處理設(shè)備:純水指的是不含雜質(zhì)的H2O。從學術(shù)角度講，純水又名高純水，是指化學純度極高的水，其主要應用在生物、 化學化工、冶金、宇航、電力等領(lǐng)域，但其對水質(zhì)純度要求相當高，所以一般應用普遍的還是電子工業(yè)。例如電力系統(tǒng)所用的純水，要求各雜質(zhì)含量低達到“微克/升”級。在純水的制作中，水質(zhì)標準所規(guī)定的各項指標應該根據(jù)電子(微電子)元器件(或材料)的生產(chǎn)工藝而定(如普遍認為造成電路性能破壞的顆粒物質(zhì)的尺寸為其線寬的1/5-1/10)，但由于微電子技術(shù)的復雜性和影響產(chǎn)品質(zhì)量的因素繁多，至今尚無一份由工藝試驗得到的適用于某種電路生產(chǎn)的完整的水質(zhì)標準。不過近年來電子級水標準也在不斷地修訂，而且高純水分析領(lǐng)域的許多突破和發(fā)展，新的儀器和新分析方法的不斷應用都為制水工藝的發(fā)展創(chuàng)造了條件。

RO

RO-EDI超純水設(shè)備，采用預處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。

RO-EDI超純水設(shè)備的應用領(lǐng)域：電廠化學水處理；電子、半導體、精密機械行業(yè)超純水；食品、飲料、飲用水的制備；小型純水站，團體飲用純水；精細化工、精尖學科用水；其他行業(yè)所需的高純水制備；制藥工業(yè)工藝用水；海水、苦咸水的淡化等。

RO-EDI超純水設(shè)備常見工藝

1原水→預處理→反滲透→EDI裝置→緊密過濾→用水點

2預處理－反滲透－兩頭水箱－水泵－稠濁床－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器(操縱紫外線燈管輻照強度形成微生物的滅活，從而達到消毒目標的裝置)－精制

混床－緊密過濾器(或稱保安過濾器)－用水點

3預處理－一級反滲透－加藥機（ PH調(diào)節(jié)）－兩頭水箱－第二級反滲透－純化水箱－純水

泵－紫外線殺菌器(操縱紫外線燈管輻照強度形成微生物的滅活,從而達到消毒目標的裝置)－0.2或0.5 μ m緊密過濾器(或稱保安過濾器)－用水點

4預處理－反滲透－兩頭水箱－水泵－ EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器(操縱紫外線燈管輻照強度形成微生物的滅活,從而達到消毒目標的裝置)－0.2

或0.5 μ m緊密過濾器(或稱保安過濾器)－用水點

5預處理－反滲透－兩頭水箱－水泵－ EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器(操縱紫外線燈管輻照強度形成微生物的滅活,從而達到消毒目標的裝置)－精制混床－0.2或0.5 μ m緊密過濾器(或稱保安過濾器)－用水點