小型純水設備-企業實力雄厚

實驗室超純水設備基本工藝流程和指標

超純化后處理系統

EDI裝置

   連續電去離子EDI（Electrodeionization的縮寫），是利用混床離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，同時這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下分別透過陰陽離子交換膜而被連續去除的過程。這一新技術可以代替傳統的離子交換（DI），產出10MΩ.cm以上的超純水。EDI深度除鹽的zui大優點是可長期穩定運行，無需用酸堿再生陰陽樹脂，十分適合造水量100L/h以上的超純水中央制備系統，水質穩定，并將大大降低運行成本，TOC也將更低更穩定。預處理裝置雖然不是純水設備中的核心部件，但是也是不可缺少的一部分，如果純水設備中沒有安裝預處理裝置，很有可能因為進水水質不合格對整套設備造成損壞。EDI裝置通常的產水電阻率約15~18MΩ.cm。

超純化后處理系統

除熱原超濾膜

   超濾除熱原已廣泛用于現代制藥行業。超濾（Ultrafiltration，縮寫“UF”）膜的孔徑介于反滲透和微濾之間（約0.01～0.1μm），通常用zui小截留分子量來表示。電子純水設備為什么會出現化學結垢問題在電子純水設備的原水中含有大量的無機物離子，原水沒經過處理之前，一般來說，離子的濃度是不會達到飽和度的，也就不會發生生成水垢的問題。永潔達除熱原超濾膜采用截留分子量為5000道爾頓的聚砜膜，可徹底去除水中熱原（其zui小分子量通常大于7000）及各類微生物。

正確維護保養純水處理設備的重要性解析

在晶體管、集成電路生產中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。2、第二種采用反滲透作為預處理再配上離子交換設備，其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但離子設備再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區域變為N型硅而導致器件性能變壞，水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。

1、工業純水設備外觀材質選擇不同，其價格有很大差異。

2、工業純水設備常規元器件和膜元件的選擇。

3、你所需要設備的產水量是多少，一般按照單個小時的產量計算。

4、原水水質情況怎么樣?原水水質決定了設備的生產工藝。

5、工業純水設備產出水需要達到的標準，這個標準和原水水質決定設備的工藝，從而決定設備的價格。

工業純水設備價格受到很多因素的影響，因為用戶在選購設備時不要急于知道設備的總價格，首先要提出自己的要求，然后綜合考慮生產商的實力和品質，從而選擇一款性價比高的產品。