金屬表面鍍鈦廠家電話生產基地,金常來質量材質上乘

PVD鍍鈦通常稱謂：鍍鈦，鍍鈦廠，鍍膜,真空鍍鈦，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工,真空鍍膜加工，表面處理，PVD涂層，模具鍍鈦，納米涂層，真空電鍍，零件鍍鈦，精密模具鍍鈦，沖壓模具鍍鈦，壓鑄模具鍍鉻，耐磨涂層，真空鍍鈦，鍍鈦涂層，離子鍍鈦，真空涂層，沖棒鍍鈦，五金模具鍍鈦，塑膠模鍍鈦，納米鍍鈦,金屬表面處理等.  

金屬表面處理PVD鍍鈦特點：增壽、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、強抗腐蝕性、抗高溫、抗黏著性等優越的使用性能廣泛應用于模具工業中。

在靶材和襯底之間加上一個直流高壓，極板間的氣體（一般為Ar2）電離，高速帶電離子轟擊靶材表面的濺射鍍膜技術。要保持自持放電，在兩極板間距為數厘米的正常濺射間距下，放電氣壓一般高達10帕，這對濺射效率和薄膜質量都是不利的。因此，直流濺射多采用非自持放電，也就是加入熱電子發射極和輔助陽極的四極濺射，可使濺射在10-1～10-2帕的低氣壓下進行。雖然加工層，鍍層能夠與之牢固地結合，因而無需用浸蝕法加以清除，一般只需進行酸洗處理。

較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設備結構簡單，容易操作。它的離子蒸發源靠電焊機電源供電即可工作，其引弧的過程也與電焊類似，具體地說，在一定工藝氣壓下，引弧針與蒸發離子源短暫接觸，斷開，使氣體放電。據說，電鍍工藝霸占了很長時間的鍍膜工藝市場，主要因為它本身具有的毒性非常大，因此市場才逐漸縮小。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動的弧斑，在蒸發源表面上連續形成熔池，使金屬蒸發后，沉積在基體上而得到薄膜層的，與磁控濺射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金屬離子離化率高，薄膜與基體之間結合力強的優點。

與不同的氣體發應形成一種薄膜涂層。今天所使用的大多數PVD方法是電弧和濺射沉積涂層。這兩種過程需要在高度真空條件下進行。Ionbond 陰極電弧PVD涂層技術在20世紀70年代后期由前蘇聯發明，如今，絕大多數的刀模具涂層使用電弧沉積技術。

　　工藝溫度：典型的PVD涂層加工溫度在250℃— 450℃之間，但在有些情況下依據應用領域和涂層的質量，PVD涂層溫度可低于70℃或高于600℃進行涂層。