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通常鏤空蝕刻細保留線 條在 0.3mm 左右，而我公司能生產(chǎn)出 0.1mm 左右的細線條。第二組噴嘴各自的噴淋面與前一組相對應的皆略有不同（它表示了噴淋的工作情況）,使噴射出的溶液形狀成為迭加或交叉的狀態(tài)。通常表 面蝕刻能達到 0.15mm 線條，而我公司能生產(chǎn)出 0.04mm 細線條。 所以叫做精細蝕刻。 精細蝕刻其工藝流程基本上與普通蝕刻一樣， 即： 基材清洗——印抗蝕油墨——烘干——曝光——顯影——蝕刻——去膜 ——電鍍 基本操作如下： 1.1 圖案與菲林制作 因為精細蝕刻的產(chǎn)品已進入藝術品的范疇，所以制圖時應將造 型、布局、色彩，特別是光線反射等諸多藝術效果的因素與生產(chǎn)工藝 所允許的條件完好的結合起來。

因 為突沿容易撕裂下來﹐在導線的兩點之間形成電的拆接。 影響側蝕的因素有很多﹐下面將概述幾點﹕ 蝕刻方式﹕ 浸泡和鼓泡式蝕刻會造成較大的側蝕﹐潑濺和噴淋式蝕刻的側蝕較小﹐尤以噴淋蝕 刻的效果很好。最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量(WeightReduction)儀器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工。 蝕刻液的種類﹕ 不同的蝕刻液, 其化學組分不相同﹐蝕刻速率就不一樣﹐蝕刻系數(shù)也不一樣。 例如﹕酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為 3﹐而堿性氯化銅蝕刻系數(shù)可達到 4。 蝕刻速率﹕ 蝕刻速率慢會造成嚴重側蝕。 提高蝕刻質量與加快蝕刻速率有很大的關系, 蝕刻速 度越快, 基板在蝕刻中停留的時間越短﹐側蝕量將越小﹐蝕刻出的圖形會更清晰整 齊。

蝕刻過程中常見的問題

蝕刻速率降低 蝕刻速率降低與許多因素有關, 故需要檢查蝕刻條件 (例如﹕溫度、 噴淋壓力、 溶 液比重、 PH 值和氯化銨的含量等)﹐使其達到適宜的范圍。 蝕刻溶液中出現(xiàn)沈淀 是由于氨的含量過低（PH 值降低）﹐或水稀釋溶液等原因造成的 (例如:冷卻系統(tǒng)漏 水等)。如光學性能、蝕刻性能、耐熱性能、加工形成性能、耐磨和耐刻畫性能、耐擦洗性能等。 溶液比重過高也會造成沈淀。 抗蝕鍍層被浸蝕 是由于蝕刻液 PH 值過低或 CL 含量過高所造成的。 銅的表面發(fā)黑, 蝕刻不動 蝕刻液中 NH4CL 的含量過低所造成的。