真空鍍膜系統報價信賴推薦

薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。冷凝泵的抽氣速率及影響冷凝泵的抽氣速率與冷凝表面的面積大小有關系，經數據顯示，單位冷凝表面積下的抽氣速率為11。

2.化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。有的真空泵出口壓強低于大氣壓，需要前級泵，故都需要把泵組合起來使用。

以上內容由艾明坷為您提供，今天我們來分享的是薄膜均勻性概念的相關內容，希望對您有所幫助！

真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法

制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。真空狀態需要抽氣系統來控制的，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。油擴散泵在真空鍍膜機中的作用油擴散泵：機械泵的極限真空只有10-2帕，當達到10-1帕的時候，實際抽速只有理論的1/10，如果要獲得高真空的話，必須采用油擴散泵。另外抽氣的時間也要控制，太短會造成真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有真空計的存在，要控制好還是不成問題的。

本信息由艾明坷為您提供，如果您想了解更多產品信息，您可撥打圖片上的電話咨詢，艾明坷竭誠為您服務！

真空鍍膜機原理

真空鍍膜機是目前制作真空條件應用為廣泛的真空設備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統采用“擴散泵 機械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。本公司專業從事真空鍍膜設備的研發與生產擁有經驗豐富的技術團隊及的售后服務隊伍為您解決設備在使用過程中遇到的任何問題。在太陽能利用方面當需要有效地利用太陽熱能時，就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。