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              磁控濺射機公司免費咨詢 沈陽鵬程真空技術

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              發布時間:2021-09-20 19:37  






              什么是磁控濺射?

              磁控濺射是物理氣相沉積的一種。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

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              直流磁控濺射技術的原理

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業生產、銷售磁控濺射產品,我們公司堅持用戶為上帝,想用戶之所想,急用戶之所急,以誠為本,講求信譽,以產品求發展,以質量求生存,我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創輝煌。

              直流磁控濺射技術其原理是:在磁控濺射中,由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運動軌跡會發生彎曲甚至產生螺旋運動,其運動路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數,使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,降低薄膜污染的傾向;另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量,因而可以在很大程度上改善薄膜的質量。所不同的是電場方向,電壓電流大小而已沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年磁控濺射產品行業經驗,專注磁控濺射產品研發定制與生產,先進的磁控濺射產品生產設備和技術,建立了嚴格的產品生產體系,想要更多的了解,歡迎咨詢圖片上的熱線電話。同時,經過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時,已變成低能電子,從而不會使基片過熱。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優點。



              濺射鍍膜的特點

              濺射就是從靶表面撞擊出原子物質的過程。濺射產生的原子或分子沉積到基體(零件)表面的過程就是濺射鍍膜。

              濺射鍍膜與真空鍍膜相比,有如下特點:

              1.任何物質都可以濺射, 尤其是高熔點金屬、低蒸氣壓元素和化合物;

              2.濺射薄膜與襯底的附著性好;

              3.濺射鍍膜的密度高,孔少,膜層純度高;

              4.膜層厚度可控性和重復性好。

              以上就是為大家介紹的全部內容,希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射產品的知識,歡迎撥打圖片上的熱線聯系我們。







              磁控濺射鍍膜機導致不均勻因素哪些?

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              原理上講,兩點:氣場和磁場

              磁控濺射在0.4Pa的氣壓情況下離子撞擊靶材,濺射出粒子沉積到基材上,整體靶材的電壓幾乎一致,不影響濺射速率。

              0.4Pa的氣場情況是濺射速率較高的情況,氣場變化,壓強變大和變小都會影響濺射速率。

              磁場大,束縛的自由電子增多,濺射速率增大,磁場小,束縛的自由電子就少,濺射速率降低。

              穩定住氣場和磁場,濺射速率也將隨之穩定。

              在實際情況下,氣場穩定,需要設計布氣系統,將布氣系統分級布置,保障鍍膜機腔體內不同位置的進氣量相同,同時,布氣系統、靶材、基材等要遠離鍍膜機的抽氣口。帶有14”立方形不銹鋼腔體,4個2”的磁控管,DC直流和RF射頻電源。需要穩定磁場,用高斯計測量靶材表面磁場強度,由于磁場線本身是閉合曲線,靶材磁場回路兩端磁場強度自然比中間位置強,可以選擇用弱磁鐵,同時,基材要避開無法調整的磁場變化較大的部分。

              另外,在設備結構設計方面,磁控濺射過程中,需要基材與靶材保持同軸,如果旋轉、直線運行的話,也要同軸旋轉、直線運行。




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